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J-GLOBAL ID：200903013363140777
照射計画方法、装置、粒子線照射システム、及び、これらに用いるコンピュータプログラム
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
高矢 諭
, 松山 圭佑
, 牧野 剛博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006322939
Publication number (International publication number)：2008136523
Application date： Nov. 30, 2006
Publication date： Jun. 19, 2008
Summary：
【課題】ターゲットでの平坦で一様な線量分布を保障しつつ、照射時間を短縮し、照射対象の負担を軽減できるようにする。【解決手段】加速器22から出射した荷電粒子ビーム2を照射装置30により照射対象6に照射する粒子線照射システム20の照射パラメータを決定する照射計画方法において、前記粒子線照射システムに起因する照射誤差を推定し、該推定した照射誤差も加味して照射パラメータを決定する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
加速器から出射した荷電粒子ビームを照射装置により照射対象に照射する粒子線照射システムの照射パラメータを決定する照射計画方法において、
前記粒子線照射システムに起因する照射誤差を推定し、
該推定した照射誤差も加味して照射パラメータを決定することを特徴とする照射計画方法。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (10)：
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE01
, 4C082AG02
, 4C082AG09
, 4C082AN02
, 4C082AN04
, 4C082AN05
, 4C082AP03
, 4C082AR02
Cited by examiner (6)
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