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J-GLOBAL ID:200903079556149845
荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法及び荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子ビーム照射システム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
大岩 増雄
, 児玉 俊英
, 竹中 岑生
, 村上 啓吾
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006137937
Publication number (International publication number):2007311125
Application date: May. 17, 2006
Publication date: Nov. 29, 2007
Summary:
【課題】照射線量制御システムのコストを低減し、かつ照射線量誤差を小さくすることができる荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法及びその加速器を用いた粒子ビーム照射システムを提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム加速器200を備え、この荷電粒子ビーム加速器から出射された荷電粒子ビームを被照射体16の設置位置まで輸送し、この輸送された荷電粒子ビームを前記被照射体の特定の照射部位に照射するようにした荷電粒子ビーム照射システムにおいて、少なくとも1の照射部位に対して予め設定された計画線量の照射に対応した1回の照射内で荷電粒子ビーム加速器から出射される荷電粒子ビームの出射ビーム強度を2段階以上に変化させるようにしたもの。【選択図】図1
Claim (excerpt):
荷電粒子ビーム加速器を備え、この荷電粒子ビーム加速器から出射された荷電粒子ビームを被照射体設置位置まで輸送し、この輸送された荷電粒子ビームを前記被照射体の特定の照射部位に照射するようにした荷電粒子ビーム照射システムにおいて、
少なくとも1の照射部位に対して予め設定された計画線量の照射に対応した1回の照射内で荷電粒子ビーム加速器から出射される荷電粒子ビームの出射ビーム強度を2段階以上に変化させるようにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法。
IPC (2):
FI (5):
H05H13/04 N
, H05H13/04 G
, H05H13/04 M
, H05H13/04 Q
, H05H13/00
F-Term (19):
2G085AA11
, 2G085AA13
, 2G085BA02
, 2G085BA13
, 2G085BC15
, 2G085CA05
, 2G085CA22
, 2G085CA26
, 2G085CA30
, 2G085EA07
, 4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE01
, 4C082AG01
, 4C082AG02
, 4C082AG07
, 4C082AG09
, 4C082AP01
, 4C082AP11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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