金めっき欠陥検査装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大坪隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002037793
Publication number (International publication number)：2003240732
Application date： Feb. 15, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：

【要約】【課題】無電解金めっき基板の欠陥を、正常部を過検出することなく精度よく検出する。【解決手段】光源装置2は、波長400nm〜600nmの光を出射する。投光角度規制装置3は、光源装置2からの光が、検査対象物6の表面に垂直な方向から15°〜25°の範囲の照射角度から検査対象物6に照射されるようにする。欠陥検査部5は、小欠陥検査部51と、大欠陥検査部52とを有している。小欠陥検査部51は、傷、金未着などの欠陥を検出し、大欠陥検査部52は、撮像画像を低解像度画像に変換することによって、正常部を過検出することなく汚れ、色むらなどの変色欠陥を高い信頼性で検出する。

Claim (excerpt)：

無電解金めっき表面の欠陥を検出する金めっき欠陥検査装置において、(1)波長400nm〜600nmの光を出射する光源装置と、(2)前記光源装置からの光が、検査対象物の表面に垂直な方向から15°〜25°の範囲の照射角度から検査対象物に照射されるようにする投光角度規制装置と、(3)検査対象物を撮像するために、その表面に垂直な方向に設置された撮像装置と、(4)前記撮像装置によって検査対象物を撮像することによって得られた撮像画像内の各画素の濃度が撮像画像の平均濃度を基準として設定された濃度範囲内に含まれない場合に当該画素を欠陥画素として2値化処理を行い、2値化処理後に1又は複数の各欠陥画素からラベリング処理によって欠陥領域候補を形成し、ラベリング処理によって得られた欠陥領域候補が予め設定された面積しきい値よりも大きい面積を有する場合に当該欠陥領域候補を欠陥領域であると判定する小欠陥検査部と、(5)前記撮像画像によって検査対象物を撮像することによって得られた撮像画像をより解像度の低い低解像度画像に変換し、変換された低解像度画像内の各画素の濃度が低解像度画像の平均濃度を基準として設定された濃度範囲内に含まれない場合に当該画素を欠陥画素として2値化処理を行い、2値化処理後に1又は複数の各欠陥画素からラベリング処理によって欠陥領域候補を形成し、ラベリング処理によって得られた欠陥領域候補が予め設定された面積しきい値よりも大きい面積を有する場合に当該欠陥領域候補を欠陥領域であると判定する大欠陥検査部とを具備していることを特徴とする金めっき欠陥検査装置。

IPC (2)：

G01N 21/956 , H05K 3/00

FI (2)：

G01N 21/956 B , H05K 3/00 Q

F-Term (11)：

2G051AA65 , 2G051AB07 , 2G051BA04 , 2G051BB01 , 2G051BB07 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CA06 , 2G051EA11 , 2G051EC03 , 2G051EC05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

メッキ検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-039256 Applicant：国際技術開発株式会社
欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-065297 Applicant：株式会社神戸製鋼所
特開昭59-135353

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