Pat
J-GLOBAL ID:200903013765192072
表示装置とその作製方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002380882
Publication number (International publication number):2004212557
Application date: Dec. 27, 2002
Publication date: Jul. 29, 2004
Summary:
【課題】表示装置における表示ムラのうち、特にレーザー光のエネルギー密度ばらつきに起因した表示ムラの低減対策をおこなうこと。【解決手段】周期的な模様は、表示画像における表示ムラとしては視認しにくい。本発明の表示装置は、このような視覚的効果を利用し、表示画像における表示ムラを視覚的に低減することを特徴としている。このような表示装置は、線状に整形したレーザー光の短軸方向に一列に並ぶ複数のTFTの電気的特性が、各々のTFTが形成されている位置に依存して周期的に変動するTFTアレイ基板を用いて作製される。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
複数のTFTが配列されたTFTアレイ基板において、列方向、若しくは行方向のうち少なくとも一方向に一列に並ぶ複数のTFTの同一電気信号下における電気的特性が、各々のTFTが形成されている位置に依存して周期的に変動することを特徴とする表示装置。
IPC (8):
G09F9/30
, G02F1/1368
, H01L21/20
, H01L21/268
, H01L21/336
, H01L29/786
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (9):
G09F9/30 338
, G02F1/1368
, H01L21/20
, H01L21/268 F
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H01L29/78 612Z
, H01L29/78 627G
, H01L29/78 627A
F-Term (108):
2H092GA59
, 2H092JA24
, 2H092JA40
, 2H092JB56
, 2H092JB58
, 2H092KA05
, 2H092MA08
, 2H092MA27
, 2H092MA29
, 2H092MA30
, 2H092NA01
, 2H092NA19
, 3K007AB02
, 3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007GA00
, 5C094AA01
, 5C094AA43
, 5C094AA48
, 5C094BA03
, 5C094BA27
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA09
, 5C094DA13
, 5C094DB01
, 5C094DB02
, 5C094DB04
, 5C094EA04
, 5C094EA05
, 5C094EA07
, 5C094FA01
, 5C094FB01
, 5C094FB14
, 5C094FB20
, 5C094GB10
, 5F052AA02
, 5F052AA17
, 5F052BA02
, 5F052BA07
, 5F052BB02
, 5F052BB03
, 5F052BB07
, 5F052DA02
, 5F052DA03
, 5F052DB01
, 5F052DB07
, 5F052EA12
, 5F052EA16
, 5F052FA06
, 5F052FA19
, 5F052FA28
, 5F052JA01
, 5F052JA04
, 5F110AA30
, 5F110BB02
, 5F110BB04
, 5F110CC02
, 5F110DD02
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110DD17
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE09
, 5F110EE14
, 5F110EE23
, 5F110EE44
, 5F110FF02
, 5F110FF30
, 5F110GG01
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG25
, 5F110GG32
, 5F110GG43
, 5F110GG44
, 5F110HJ01
, 5F110HJ04
, 5F110HJ23
, 5F110HL04
, 5F110HL05
, 5F110HL12
, 5F110HM15
, 5F110NN03
, 5F110NN22
, 5F110NN24
, 5F110NN27
, 5F110NN34
, 5F110NN35
, 5F110NN72
, 5F110NN77
, 5F110NN78
, 5F110PP03
, 5F110PP05
, 5F110PP06
, 5F110PP13
, 5F110PP29
, 5F110PP34
, 5F110QQ11
, 5F110QQ19
, 5F110QQ23
, 5F110QQ24
, 5F110QQ25
, 5F110QQ28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-175614
Applicant:株式会社東芝
-
液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-305890
Applicant:富士通株式会社
-
レーザーアニール方法及び半導体膜の溶融結晶化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-198465
Applicant:松下電器産業株式会社
-
レーザアニール方法および液晶表示装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-211935
Applicant:松下電器産業株式会社
-
半導体装置及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-246511
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
半導体装置の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-165782
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
電気光学装置およびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-303671
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所, シャープ株式会社
Show all
Return to Previous Page