Pat
J-GLOBAL ID:200903013997712404
反射防止積層体
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001034947
Publication number (International publication number):2002235036
Application date: Feb. 13, 2001
Publication date: Aug. 23, 2002
Summary:
【要約】【課題】本発明は、低屈折率と実用上十分な物理的強度を有し、しかも安価で、防汚性、生産性等に優れた反射防止積層体を提供することを目的とする。【解決手段】プラスチックやガラス等の透明基材の少なくとも片面に、下記一般式(A)と一般式(B)で表されるフッ素含有ケイ素化合物、およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率コーティング剤を塗布形成された低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止積層体でる。一般式(A) Si(OR)<SB>4</SB>(ただし、Rはアルキル基)で表されるSiアルコキシド、およびその加水分解物一般式(B) CF<SB>3</SB>-(CF<SB>2</SB>)<SB>p</SB>-(CH)<SB>n</SB>-Si(OR)<SB>3</SB>(ただし、pは0≦p≦8の整数、nはn<5の整数、Rはアルキル基)
Claim (excerpt):
プラスチックやガラス等の透明基材の少なくとも片面に、一般式(A) Si(OR)<SB>4</SB>(ただし、Rはアルキル基)で表されるSiアルコキシド、およびその加水分解物と、 一般式(B) CF<SB>3</SB>-(CF<SB>2</SB>)<SB>p</SB>-(CH)<SB>n</SB>-Si(OR)<SB>3</SB>(ただし、pは0≦p≦8の整数、nはn<5の整数、Rはアルキル基)で表されるフッ素含有ケイ素化合物、およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率コーティング剤を塗布形成された低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止積層体。
IPC (8):
C09D183/02
, B05D 5/06
, B32B 7/02 103
, B32B 27/00 101
, C09D 5/32
, C09D175/14
, C09D183/08
, G02B 1/11
FI (8):
C09D183/02
, B05D 5/06 F
, B32B 7/02 103
, B32B 27/00 101
, C09D 5/32
, C09D175/14
, C09D183/08
, G02B 1/10 A
F-Term (69):
2K009AA04
, 2K009AA15
, 2K009BB02
, 2K009BB11
, 2K009BB28
, 2K009CC24
, 2K009CC26
, 2K009CC35
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009DD05
, 2K009DD06
, 2K009EE05
, 4D075CA02
, 4D075CA13
, 4D075CA34
, 4D075CA47
, 4D075CB02
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB31
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EA21
, 4D075EA43
, 4D075EB02
, 4D075EB19
, 4D075EB22
, 4D075EB38
, 4D075EB52
, 4D075EB56
, 4F100AG00A
, 4F100AJ06A
, 4F100AK01A
, 4F100AK01C
, 4F100AK25C
, 4F100AK25K
, 4F100AK51C
, 4F100AK51K
, 4F100AK52B
, 4F100AL06C
, 4F100AR00C
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100GB41
, 4F100JA07C
, 4F100JB14C
, 4F100JK06
, 4F100JK12C
, 4F100JN06
, 4F100JN18
, 4F100JN18B
, 4F100YY00C
, 4J038DL021
, 4J038DL072
, 4J038FA111
, 4J038FA281
, 4J038GA01
, 4J038JC31
, 4J038JC32
, 4J038MA14
, 4J038NA05
, 4J038NA19
, 4J038PA17
, 4J038PC03
, 4J038PC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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