高屈折率組成物及び高屈折率コーティング組成物とその組成物からなる反射防止積層体並びにその製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999206909
Publication number (International publication number)：2001031871
Application date： Jul. 21, 1999
Publication date： Feb. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】高い屈折率を有し、かつ物理的的強度にも優れ、安価で、生産性に優れた高屈折率組成物からなる反射防止積層体並びにその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】下記一般式(A)R’x M(OR)y-x(Rはアルキル基、R’は末端にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可能な不飽和結合を有する官能基、yは金属の酸化数、xは0<x<yの置換数、MはTi,Ta,Zr,In,Znの中から選ばれるいずれか1種の金属)で表せる有機金属化合物およびその加水分解物と、分子中にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可能な不飽和結合を少なくとも3個以上を有するアクリル系化合物とを主成分とすることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

下記一般式(A)R’x M(OR)y-x(Rはアルキル基、R’は末端にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可能な不飽和結合を有する官能基、yは金属の酸化数、xは0<x<yの置換数、MはTi,Ta,Zr,In,Znの中から選ばれるいずれか1種の金属)で表せる有機金属化合物およびその加水分解物と、分子中にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可能な不飽和結合を少なくとも3個以上を有するアクリル系化合物とを主成分とすることを特徴とする高屈折率組成物。

IPC (9)：

C08L 85/00 , B32B 9/00 , B32B 27/30 , C08G 79/00 , C08K 3/22 , C08K 9/00 , C09D 4/02 , C09D 5/00 , C09D 7/12

FI (9)：

C08L 85/00 , B32B 9/00 Z , B32B 27/30 A , C08G 79/00 , C08K 3/22 , C08K 9/00 , C09D 4/02 , C09D 5/00 Z , C09D 7/12 Z

F-Term (48)：

4F100AA17A , 4F100AA21A , 4F100AA25A , 4F100AA27A , 4F100AH02A , 4F100AH08A , 4F100AK25 , 4F100AR00C , 4F100AT00B , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100CA23A , 4F100DE01A , 4F100EH46C , 4F100EH462 , 4F100EJ08C , 4F100EJ082 , 4F100EJ53C , 4F100EJ532 , 4F100EJ54C , 4F100EJ542 , 4F100EJ862 , 4F100GB90 , 4F100JA11A , 4F100JB14C , 4F100JK12C , 4F100JK14C , 4F100JN18A , 4J002CQ031 , 4J002DE097 , 4J002DE107 , 4J002DE137 , 4J002EH046 , 4J002FB087 , 4J002FD207 , 4J030CA02 , 4J030CC15 , 4J030CC21 , 4J030CD11 , 4J030CF02 , 4J030CG20 , 4J038FA011 , 4J038HA216 , 4J038JC38 , 4J038MA14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-018969 Applicant：大日本印刷株式会社
反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-110173 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平2-210401

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