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J-GLOBAL ID：200903014134606998

標的容積を粒子ビームで処理する方法及びこの方法を応用する装置

Inventor：
ヨンゲン,イーブス

About ヨンゲン,イーブス


Applicant, Patent owner：
イヨン ベアム アプリカスィヨン

About イヨン ベアム アプリカスィヨン


Agent (1)： 白浜 吉治
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000591842
Publication number (International publication number)：2002534138
Application date： Dec. 20, 1999
Publication date： Oct. 15, 2002
Summary：
【要約】【解決手段】 本発明は標的容積を、粒子ビーム、特に陽子ビームで処理する方法に係り、この方法は加速器を利用して粒子ビームを発生させ、このビームから、標的容積に向けられた狭いスポットを形成するステップから成り、スポットの走査速度と粒子ビームの強さとが同時変化する。
Claim (excerpt)：
加速器を使用して粒子ビーム、特に、陽子ビームを発生させ、このビームから、標的容積に向けられる狭いスポットを形成し、この陽子ビームで標的容積を処理する方法であって、前記スポットの走査速度及び粒子ビーム強さを同時に変化させることを特徴とする前記方法。
IPC (2)：
A61N 5/10 ,  G21K 5/04
FI (4)：
A61N 5/10 H ,  A61N 5/10 P ,  G21K 5/04 C ,  G21K 5/04 Z
F-Term (10)：
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AG02 ,  4C082AG12 ,  4C082AG43 ,  4C082AN02 ,  4C082AN04 ,  4C082AN05 ,  4C082AP01 ,  4C082AP02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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