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J-GLOBAL ID：200903014238577523

微粒子人工結晶体の形成方法及び形成装置

Inventor：
日野 威

About 日野 威


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001284274
Publication number (International publication number)：2003095793
Application date： Sep. 19, 2001
Publication date： Apr. 03, 2003
Summary：
【要約】【課題】 微粒子の構造体(人工結晶体)を形成する際に発生する転移及び欠陥を減少させ、形成後、人工結晶体をシングルドメイン構造とする。【解決手段】 微粒子分散液供給量制御機構部11は原料となる微粒子分散液1の量を制御して微粒子単層2の成長界面に供給し、雰囲気制御機構部12は分散液1の乾燥速度と温湿度を制御し、駆動機構部13は微粒子単層2の成長界面を掃引するための基板ステージ4を駆動する。固定化液の添加機構14は固定化液を添加して粒子同士を固定化している。粒子径の揃った微粒子を含む微粒子分散液を基板3上に展開、乾燥させることにより、最密充填構造を有する微粒子層を形成し、形成した最密充填構造の粒子層を基板から剥がし、別途、あるいは、同一基板上の別個所に形成した最密充填構造の粒子層の上に、下方の粒子層と上方の粒子層の位置を合わせて積み重ねることにより人工結晶体を形成する。
Claim (excerpt)：
球形状を有し、且つ、粒子径の揃った微粒子を含む微粒子分散液を基板上に展開、乾燥させることにより、最密充填構造を有する微粒子の2粒子層を形成する工程と、形成した最密充填構造の2粒子層をマイクロピンセットにより基板から剥がし、別途、あるいは、同一基板上の別個所に形成した最密充填構造の2粒子層の上に、下方の2粒子層と上方の2粒子層の位置合わせをおこなって積み重ねる工程と、以降、同様の2粒子層ごと積み重ね工程の繰り返しよりなることを特徴とする微粒子による人工結晶体の形成方法。
IPC (4)：
C30B 29/34 ,  B01J 19/00 ,  B81C 1/00 ,  G02B 6/12
FI (5)：
C30B 29/34 Z ,  B01J 19/00 K ,  B81C 1/00 ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 Z
F-Term (19)：
2H047KA03 ,  2H047LA18 ,  2H047PA02 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047RA08 ,  2H047TA05 ,  2H047TA41 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA10 ,  4G075CA80 ,  4G075DA02 ,  4G077AA02 ,  4G077BB03 ,  4G077CB06 ,  4G077EG30 ,  4G077HA01 ,  4G077HA20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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