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J-GLOBAL ID：200903014679465020

ハードコート膜形成方法

Inventor：
西出 利一

About 西出 利一


Applicant, Patent owner：
学校法人日本大学

About 学校法人日本大学


Agent (1)： 福村 直樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000387723
Publication number (International publication number)：2002187738
Application date： Dec. 20, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：
【要約】【課題】 アモルファスでありながら鉛筆硬度が大きくて高い屈折率及び基材に対する大きな密着性を備え、各種透明部材の表面保護膜として、防眩性薄膜として有用なハードコート膜を提供することを目的とする。【解決手段】 ゾルゲル法により形成されたところの、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びハフニウムより成る群から選択される少なくとも一種の元素の無機化合物を含有するゾル液を、基材上に塗布し、200°Cを超えない温度に加熱処理しながら、大きくとも100mJ/cm2の紫外線を照射することを特徴とするハードコート膜形成方法。
Claim (excerpt)：
ゾルゲル法により形成されたところの、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びハフニウムより成る群から選択される少なくとも一種の元素の無機化合物を含有するゾル液を、基材上に塗布し、200°Cを超えない温度に加熱処理しながら、大きくとも100mJ/cm2の紫外線を照射することを特徴とするハードコート膜形成方法。
IPC (6)：
C03C 17/25 ,  B05D 3/06 102 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/24 302 ,  B32B 9/00 ,  C09K 3/18 101
FI (6)：
C03C 17/25 A ,  B05D 3/06 102 C ,  B05D 5/00 B ,  B05D 7/24 302 A ,  B32B 9/00 A ,  C09K 3/18 101
F-Term (66)：
4D075BB26Z ,  4D075BB42Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB54Z ,  4D075BB91Z ,  4D075BB93Z ,  4D075BB94Z ,  4D075CA02 ,  4D075CA13 ,  4D075CA36 ,  4D075CB02 ,  4D075CB03 ,  4D075DA06 ,  4D075DB02 ,  4D075DB04 ,  4D075DB06 ,  4D075DB07 ,  4D075DB12 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC02 ,  4D075DC05 ,  4D075DC08 ,  4D075DC13 ,  4D075DC24 ,  4D075DC38 ,  4D075EA12 ,  4D075EB01 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4F100AA17A ,  4F100AA19A ,  4F100AA20A ,  4F100AA27A ,  4F100AG00B ,  4F100AK01B ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100CC00A ,  4F100EH46A ,  4F100EH462 ,  4F100EJ42A ,  4F100EJ423 ,  4F100EJ54A ,  4F100EJ543 ,  4F100JA12 ,  4F100JK12 ,  4F100JK12A ,  4F100JN18 ,  4F100JN30 ,  4G059AA01 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC16 ,  4G059CA01 ,  4G059CA03 ,  4G059CB05 ,  4G059EA01 ,  4G059EA04 ,  4G059EA09 ,  4G059EB07 ,  4G059FA01 ,  4G059FA05 ,  4G059FA28 ,  4G059FB06 ,  4H020BA04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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