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J-GLOBAL ID:200903014719449260
導電性膜形成用材料、該材料を用いる導電性膜の形成方法、及び、該形成方法を用いる電子放出素子,電子源,画像形成装置等の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
豊田 善雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995208484
Publication number (International publication number):1996104810
Application date: Jul. 25, 1995
Publication date: Apr. 23, 1996
Summary:
【要約】【課題】 画像形成装置の電子ビーム源となる電子放出素子や、液晶表示装置の液晶配向膜等の作製に好適に用いることができ、膜厚の薄い領域でも、均一な膜厚で良好な導電率等の電気特性を示す導電性膜形成用材料を提供する。【解決手段】 金属、アルキル基またはアルケニル基を有する疎水性部分、及びカルボニル基またはアミノ基を有する親水性部分、とを有する導電性膜形成用材料。
Claim (excerpt):
金属、疎水性部分、及び、親水性部分とを有することを特徴とする導電性膜形成用材料。
IPC (7):
C08L 79/08 LRB
, B05D 1/20
, B05D 3/06 102
, B05D 5/12
, B05D 7/24 302
, C08G 73/10 NTF
, C09D179/08 PLX
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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高分子金属錯体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-236373
Applicant:日産自動車株式会社
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高分子導電・抵抗体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-272971
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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特開平2-109217
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特開平1-140052
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導電性のペースト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-249710
Applicant:旭化成工業株式会社
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特開昭58-025368
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ポリアニリンまたはポリアニリン導電性薄膜の製造 方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-070521
Applicant:倉本憲幸
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