投影露光装置及び投影露光方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：川北喜十郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995175418
Publication number (International publication number)：1997008103
Application date： Jun. 19, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：

【要約】【目的】円形レチクルをレチクルステージ上に効率よく且つ高精度に位置合わせすることができる機構を備えた投影露光装置を提供する。【構成】円形マスク28のパターンを投影光学系15を介して感光基板16に投影露光する投影露光装置である。円形マスク28の回転方向の誤差を予め補正するためのプリアライメントステージ11と円形マスクをプリアライメントステージ11からマスクステージ2に搬送するための搬送アーム8を備える。プリアライメントステージ11は円形マスクのプリアライメントステージ上での所定方位からの回転誤差を検出するための光学検出系12と、円形マスク28をプリアライメントステージ11上で回転させるための回転ステージ26と、回転誤差に基づいて円形マスク28が所定方位になるように回転ステージを制御する装置31A,Bを有する。

Claim (excerpt)：

矩形のパターン領域を有する円形マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に投影露光する投影露光装置であって、円形マスクを照明する照明光学系と、マスクステージと、感光基板を2次元方向に移動するステージと、円形マスクの方位をプリアライメントするためのプリアライメントステージであって、円形マスクのプリアライメントステージ上での所定方位からの方位誤差を検出するための検出手段と、円形マスクをプリアライメントステージ上で回転させるための回転手段と、該方位誤差に基づいて円形マスクが所定方位になるように回転手段を制御するための制御手段とを有する上記プリアライメントステージと、円形マスクをプリアライメントされた状態でプリアライメントステージからマスクステージに搬送するための搬送手段とを備える上記投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/68 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (4)：

H01L 21/68 F , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 520 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-098018 Applicant：株式会社ニコン
特開昭63-224326
特開平1-101629

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