紫外線または紫外線より波長の短い光を用いた材料の加工装置および加工方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：深見久郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000026463
Publication number (International publication number)：2001215720
Application date： Feb. 03, 2000
Publication date： Aug. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】加工深さの異なる所望の3次元形状の加工を可能とするとともに、透過部の形状が加工形状に与える影響を少なくした加工をすること。【解決手段】 SR光のX線を放射するSR光源1と、SR光源1から放射されたX線を透過する所定の形状の透過部を有するX線マスクと、加工材料の加工形状に基づき定められる移動パターンにしたがって、X線マスクと材料とを相対的に移動させ、透過口を透過したX線が材料に照射される領域を振動させるために、X線マスクと材料とを相対的に振動させる露光用ステージ3とを備える。露光用ステージ3による振動の速さは、移動の速さよりも速い。相対的な移動により材料が加工形状に応じた露光分布で露光され、相対的な振動により透過口の形状の誤差が、透過口を透過したX線が照射される領域で平均化される。

Claim (excerpt)：

材料に紫外線または紫外線より波長の短い光を照射して、前記材料を除去することにより、または、前記材料の物理的もしくは化学的な性質を変化させることにより加工する加工装置であって、紫外線または紫外線より波長が短い光を放射する光源と、前記光源から放射された光を透過する所定の形状の透過部を有するマスクと、前記材料の加工形状に基づき定められる移動パターンにしたがって、前記マスクと前記材料とを相対的に移動させる移動手段と、前記透過部を透過した光が前記材料に照射される領域を振動させるために、前記マスクと前記材料とを相対的に振動させる振動手段とを備え、前記振動手段による振動の速さは、前記移動手段による移動の速さよりも速いことを特徴とする、加工装置。

IPC (2)：

G03F 7/20 503 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/20 503 , H01L 21/30 531 E

F-Term (12)：

2H097AA16 , 2H097AB09 , 2H097BB01 , 2H097BB10 , 2H097CA12 , 2H097JA02 , 2H097LA15 , 5F046AA02 , 5F046AA25 , 5F046BA03 , 5F046CC20 , 5F046DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

X線照射を用いた材料の加工方法及び加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-202223 Applicant：学校法人立命館
X線露光方法及びX線マスク製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-118737 Applicant：富士通株式会社
特開昭50-115774

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Cited by examiner (9)

X線照射を用いた材料の加工方法及び加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-202223 Applicant：学校法人立命館
X線露光方法及びX線マスク製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-118737 Applicant：富士通株式会社
特開昭50-115774

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