基板処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井上俊夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999143424
Publication number (International publication number)：2000331922
Application date： May. 24, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】カセットステーション、塗布ブロック、現像ブロック、露光ブロックをこの順に直線状に設けてレジストパターンを形成する装置において、高いスループットを得ること。【解決手段】カセットステーションCSから見て左側に高さを変えて往路移送手段6と復路移送手段7とを設ける。往路移送手段6は移送台62を備え、レジスト塗布後のウエハWを第1の主搬送手段30から受け取って(A1)、インターフェイスステーション51の受け渡しアーム53のアクセス位置(A2)まで移送する。復路移送手段7は移送台72備え、現像後のウエハWを第3の主搬送手段40から受け取って(B1)カセットステーションCSの受け渡しアーム22のアクセス位置(B2)まで移送する。

Claim (excerpt)：

複数の基板を収納した基板カセットを載置する載置部とこの載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段とを含むカセットステ-ションと、第1の処理ブロックと、第3の処理ブロックと、第2の処理ブロックと、をこの順で横方向に配列して構成され、前記第1の処理ブロックは前記カセットステ-ションから搬送された基板に対して第1の処理を行い、第3の処理ブロックは前記第2の処理ブロックにて第2の処理が行われた基板に対して第3の処理を行い、第2の処理ブロックは前記第1の処理が行われた基板に対して第2の処理を行うものである基板処理装置において、前記基板カセットから受け渡し手段により取り出された基板を前記第1の処理ブロック内で搬送するための第1の主搬送手段と、前記第2の処理が行われた基板を前記第3の処理ブロック内で搬送するための第3の主搬送手段と、前記第1の処理ブロックにて第1の処理がされた基板を前記第3の主搬送手段の搬送領域の外側の領域を通って第2の処理ブロックに搬送する往路移送手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/30 502 J , G03F 7/20 521 , H01L 21/68 A

F-Term (25)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA17 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031GA37 , 5F031GA48 , 5F031GA50 , 5F031MA07 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F046AA17 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046JA04 , 5F046JA22 , 5F046JA27 , 5F046KA04 , 5F046KA10 , 5F046LA01 , 5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-142738 Applicant：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-066325 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-176892 Applicant：東京エレクトロン株式会社

Cited by examiner (1)

処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-142738 Applicant：東京エレクトロン株式会社

Return to Previous Page