処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：須山佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997142738
Publication number (International publication number)：1998335220
Application date： May. 30, 1997
Publication date： Dec. 18, 1998
Summary：

【要約】【課題】レジスト塗布ユニットや現像ユニット等の液処理系の処理ユニットが、外部からの熱影響を受けてその処理特性に変動が生じることのない処理装置を実現する。【解決手段】各種の制御回路や電源用回路等を実装したプリント基板を収納した回路ボックス51を、レジスト塗布ユニット(COT)や現像ユニット(DEV)等の液処理系の処理ユニットを除く領域の上方に配置する。これにより、レジスト塗布及び現像処理にて受ける回路ボックス51からの熱影響を最小に抑えることが可能となり、歩留りの向上を図ることができる。

Claim (excerpt)：

被処理基板を処理する複数の第1の処理ユニットと、被処理基板を処理液を用いて処理する第2の処理ユニットと、前記各第1の処理ユニットに対して前記被処理基板の出し入れを行う第1の搬送ユニットと、前記各第1の処理ユニットを挟んで前記第1の搬送ユニットと対向する位置に設けられ、前記各第1の処理ユニットのうちの一部のユニット及び前記第2の処理ユニットに対して前記被処理基板の出し入れを行う第2の搬送ユニットと、前記第2の処理ユニットを除く領域の上方に配置された制御用の電子部品群とを具備することを特徴とする処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 561 , H01L 21/68 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-315403 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板収納カセット、インターフェイス機構および基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-249748 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板搬送装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-251913 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

Show all

Return to Previous Page