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J-GLOBAL ID:200903015490151616
多孔質セラミック積層体及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
加藤 朝道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000058844
Publication number (International publication number):2001247385
Application date: Mar. 03, 2000
Publication date: Sep. 11, 2001
Summary:
【要約】従来にない高温でガス分離を可能にする極微細孔を有する多孔質セラミック積層体及びその製造方法を提供する。【解決手段】ポリシラザンを含有する成形体層を担持する多孔質窒化珪素支持体を窒素雰囲気中において800°Cで焼成して、クヌッセン的分離が可能な寸法の微細孔を主として有する多孔質窒化珪素分離膜を担持する多孔質窒化珪素支持体である多孔質セラミック積層体を得た。
Claim (excerpt):
多孔質セラミック分離膜と、前記分離膜を担持する多孔質セラミック支持体を有し、前記分離膜と前記支持体は、それぞれ、非酸化物系セラミックスを主たる成分として含有し、前記分離膜は、クヌッセン的分離が可能な寸法の微細孔を主として有することを特徴とする多孔質セラミック積層体。
IPC (3):
C04B 41/85
, B01D 53/22
, B01D 71/02 500
FI (3):
C04B 41/85 C
, B01D 53/22
, B01D 71/02 500
F-Term (16):
4D006GA42
, 4D006HA22
, 4D006MA02
, 4D006MA09
, 4D006MA10
, 4D006MA22
, 4D006MB04
, 4D006MB19
, 4D006MC01X
, 4D006NA45
, 4D006PA03
, 4D006PB62
, 4D006PB63
, 4D006PB64
, 4D006PB66
, 4D006PB68
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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シリカ質多孔質膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-023692
Applicant:京セラ株式会社
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アルミナ多孔質膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-309504
Applicant:京セラ株式会社
-
ミクロ細孔セラミックの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-149499
Applicant:エクソン・リサーチ・アンド・エンジニアリング・カンパニー
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特開昭61-212309
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特開平3-188929
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ミクロ細孔セラミックの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-149498
Applicant:エクソン・リサーチ・アンド・エンジニアリング・カンパニー
-
ゼオライト膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-067298
Applicant:株式会社ノリタケカンパニーリミテド
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金属酸化物ゾルを用いた多孔質体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-219851
Applicant:京セラ株式会社
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