多孔質セラミック積層体及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：加藤朝道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000058844
Publication number (International publication number)：2001247385
Application date： Mar. 03, 2000
Publication date： Sep. 11, 2001
Summary：

【要約】従来にない高温でガス分離を可能にする極微細孔を有する多孔質セラミック積層体及びその製造方法を提供する。【解決手段】ポリシラザンを含有する成形体層を担持する多孔質窒化珪素支持体を窒素雰囲気中において800°Cで焼成して、クヌッセン的分離が可能な寸法の微細孔を主として有する多孔質窒化珪素分離膜を担持する多孔質窒化珪素支持体である多孔質セラミック積層体を得た。

Claim (excerpt)：

多孔質セラミック分離膜と、前記分離膜を担持する多孔質セラミック支持体を有し、前記分離膜と前記支持体は、それぞれ、非酸化物系セラミックスを主たる成分として含有し、前記分離膜は、クヌッセン的分離が可能な寸法の微細孔を主として有することを特徴とする多孔質セラミック積層体。

IPC (3)：

C04B 41/85 , B01D 53/22 , B01D 71/02 500

FI (3)：

C04B 41/85 C , B01D 53/22 , B01D 71/02 500

F-Term (16)：

4D006GA42 , 4D006HA22 , 4D006MA02 , 4D006MA09 , 4D006MA10 , 4D006MA22 , 4D006MB04 , 4D006MB19 , 4D006MC01X , 4D006NA45 , 4D006PA03 , 4D006PB62 , 4D006PB63 , 4D006PB64 , 4D006PB66 , 4D006PB68

Patent cited by the Patent：

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