反射防止塗布組成物及びパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994128916
Publication number (International publication number)：1995333855
Application date： Jun. 10, 1994
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：

【要約】【目的】従来よりも反射防止効果の大きい反射防止塗布組成物を提供し、また、このような反射防止塗布組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【構成】パターン転写に供するフォトレジスト膜上に塗布して反射防止膜を形成させるための反射防止塗布組成物において、パターン転写時に前記フォトレジスト膜及び反射防止膜に照射される光の波長と等しい波長の光を吸収する吸光剤を含有することを特徴とする反射防止塗布組成物、及び、これを用いたパターン形成方法。吸光剤によって、第2の反射光27と第3の反射光28との光量を等しくする

Claim (excerpt)：

パターン転写に供するフォトレジスト膜上に塗布して反射防止膜を形成させるための反射防止塗布組成物において、パターン転写時に前記フォトレジスト膜及び反射防止膜に照射される光の波長と等しい波長の光を吸収する吸光剤を含有することを特徴とする反射防止塗布組成物。

IPC (2)：

G03F 7/11 503 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭52-030428
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-287666 Applicant：三菱電機株式会社
特開昭63-110725

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