パターン化された光を用いる多光子吸収法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：石田敬 , 鶴田準一 , 古賀哲次 , 西山雅也 , 樋口外治
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002511027
Publication number (International publication number)：2004503832
Application date： Jun. 14, 2001
Publication date： Feb. 05, 2004
Summary：

光反応性組成物において少なくとも部分的に反応した物質の領域を作り出す方法及び装置。この方法は、光反応性組成物を提供するステップと、前記光反応性組成物が少なくとも2つの光子を同時に吸収するために十分な光の供給源を提供するステップと、画像状の多光子吸収を誘起することができる露光システムを提供するステップと、露光システムによって非ランダム3次元光パターンを発生させるステップと、露光システムによって発生された前記3次元光パターンに前記光反応性組成物を露光させて少なくとも部分的にその物質の一部分をそこに入射される非ランダム3次元光パターンに対応して反応させるステップとを含む。

Claim (excerpt)：

光反応性組成物内で少なくとも部分的に反応した物質の領域を作り出す方法において、光反応性組成物を提供するステップと、前記光反応性組成物が少なくとも2つの光子を同時に吸収するために十分な光の供給源を提供するステップと、少なくとも1つの回折性光学素子を含み、画像状の多光子吸収を誘起することができる露光システムを提供するステップと、前記露光システムによって非ランダム3次元光パターンを発生させるステップと、前記露光システムによって発生された前記3次元光パターンに前記光反応性組成物を露光させて少なくとも部分的に前記物質の一部分をそこに入射される前記非ランダム3次元光パターンに対応して反応させるステップとを含む方法。

IPC (4)：

G03F7/20 , B81C5/00 , G02B21/06 , G03H1/02

FI (4)：

G03F7/20 505 , B81C5/00 , G02B21/06 , G03H1/02

F-Term (16)：

2H052AA08 , 2H052AC34 , 2H097CA17 , 2H097GB04 , 2H097LA20 , 2K008AA04 , 2K008BB03 , 2K008BB05 , 2K008DD02 , 2K008DD12 , 2K008EE07 , 2K008FF17 , 2K008HH01 , 2K008HH06 , 2K008HH07 , 2K008HH19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

反射型ホログラムによるパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-295571 Applicant：日本電気株式会社
露光装置および露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-175924 Applicant：株式会社ニコン
露光装置および露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-175921 Applicant：株式会社ニコン

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