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J-GLOBAL ID：200903016246020328

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor：
釜淵 明

About 釜淵 明

, 
山田 愛理

About 山田 愛理


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003013208
Publication number (International publication number)：2003287884
Application date： Jan. 22, 2003
Publication date： Oct. 10, 2003
Summary：
【要約】【課題】エキシマレーザーリソグラフィに適し、バランスよく感度が高くレジスト形状が良い化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、スルホニウム塩とを含有するレジスト組成物において、酸に不安定な基を持つ重合単位が、下式(Ia)で示される重合単位及び(Ib)で示される重合単位からなる群から選ばれた少なくとも1種であり、スルホニウム塩が下式(II)で示されるスルホニウム塩である化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(R1はメチル基又は水素原子。R2、R3、R4は、炭素数1〜6のアルキル基。)(Q1〜Q12は、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基。X-は対イオン。)
Claim (excerpt)：
酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、スルホニウム塩とを含有するレジスト組成物において、酸に不安定な基を持つ重合単位が、下式(Ia)で示される重合単位及び(Ib)で示される重合単位からなる群から選ばれた少なくとも1種であり、スルホニウム塩が下式(II)で示されるスルホニウム塩であることを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、R1はメチル基又は水素原子を表し、R2、R3、R4はそれぞれ独立に炭素数1〜6のアルキル基を表す。)(式中、Q1〜Q12は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。X-は対イオンを表す。)
IPC (4)：
G03F 7/004 503 ,  C08F 20/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/004 503 A ,  C08F 20/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (24)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)
  • ポジ型感光性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-003900   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-359321   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-153235   Applicant：富士写真フイルム株式会社

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