カチオン変性精製ローカストビーンガム及び該物質を含む化粧料組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005059741
Publication number (International publication number)：2006241082
Application date： Mar. 03, 2005
Publication date： Sep. 14, 2006
Summary：

【課題】毛髪処理用組成物に配合することで、損傷毛髪に使用した場合においても、優れたコンディショニング効果を示し、ボディ用洗浄剤などの皮膚化粧料組成物に配合した場合には、泡立ち及び泡質の改善と良好な使用感が得られるカチオン性ポリマーを提供する。【解決手段】ガラクトマンナン含有量が90質量%以上でかつ、1質量%水溶液の濁度が15%以下の、マンノースを構成単位とする主鎖に、ガラクトース単位が側鎖として構成されたマンノースとガラクトースの組成比が4対1のローカストビーンガムの水酸基の一部に、特定量の第4級窒素含有基を導入し、かつカチオン電荷量を特定範囲に調節し、更に、特定量の第4級窒素含有基を導入したあとのカチオン変性精製ローカストビーンガムの1質量%水溶液の濁度が15%以下であるカチオン変性精製ローカストビーンガムと、該カチオン変性精製ローカストビーンガムを含有する化粧料組成物。

Claim (excerpt)：

粗製ローカストビーンガムを精製することにより得られる、マンノースを構成単位とする主鎖にガラクトース単位が側鎖として構成された、マンノースとガラクトースの組成比が4対1であるガラクトマンナンの含有量が90質量%以上で、かつ1質量%水溶液の濁度が15%以下である精製ローカストビーンガムの水酸基の一部を、下記化学式(1)で表される第4級窒素含有基で置換したものであって、該第4級窒素含有基由来のカチオン電荷量が0.1〜3.0meq/gであり、さらに第4級窒素含有基を導入したあとのカチオン変性精製ローカストビーンガムの1%水溶液の濁度が15%以下あるカチオン変性精製ローカストビーンガム。

IPC (15)：

A61K 8/72 , A61K 8/30 , A61K 8/96 , A61K 8/00 , A61Q 1/02 , A61Q 1/10 , A61Q 5/00 , A61Q 5/02 , A61Q 5/12 , A61Q 5/10 , A61Q 5/08 , A61Q 9/02 , A61Q 19/10 , C08B 37/00 , C11D 3/37

FI (14)：

A61K7/00 J , A61K7/00 C , A61K7/00 K , A61K7/021 , A61K7/032 , A61K7/06 , A61K7/075 , A61K7/08 , A61K7/13 , A61K7/135 , A61K7/15 , A61K7/50 , C08B37/00 K , C11D3/37

F-Term (124)：

4C083AA112 , 4C083AA122 , 4C083AB032 , 4C083AB212 , 4C083AB232 , 4C083AB242 , 4C083AB282 , 4C083AB332 , 4C083AB352 , 4C083AB412 , 4C083AB432 , 4C083AB442 , 4C083AC012 , 4C083AC022 , 4C083AC071 , 4C083AC072 , 4C083AC092 , 4C083AC102 , 4C083AC122 , 4C083AC132 , 4C083AC172 , 4C083AC182 , 4C083AC231 , 4C083AC241 , 4C083AC242 , 4C083AC262 , 4C083AC302 , 4C083AC312 , 4C083AC342 , 4C083AC352 , 4C083AC392 , 4C083AC422 , 4C083AC432 , 4C083AC472 , 4C083AC482 , 4C083AC532 , 4C083AC542 , 4C083AC552 , 4C083AC562 , 4C083AC582 , 4C083AC641 , 4C083AC642 , 4C083AC662 , 4C083AC692 , 4C083AC712 , 4C083AC772 , 4C083AC782 , 4C083AC792 , 4C083AC902 , 4C083AC932 , 4C083AD042 , 4C083AD092 , 4C083AD131 , 4C083AD132 , 4C083AD151 , 4C083AD152 , 4C083AD162 , 4C083AD242 , 4C083AD262 , 4C083AD351 , 4C083AD352 , 4C083AD412 , 4C083AD432 , 4C083AD442 , 4C083AD452 , 4C083AD532 , 4C083AD642 , 4C083AD662 , 4C083BB34 , 4C083BB35 , 4C083BB36 , 4C083CC01 , 4C083CC04 , 4C083CC11 , 4C083CC12 , 4C083CC14 , 4C083CC21 , 4C083CC23 , 4C083CC25 , 4C083CC31 , 4C083CC33 , 4C083CC35 , 4C083CC36 , 4C083CC38 , 4C083CC39 , 4C083DD06 , 4C083DD21 , 4C083DD22 , 4C083DD23 , 4C083DD27 , 4C083DD31 , 4C083DD41 , 4C083EE01 , 4C083EE06 , 4C083EE07 , 4C083EE26 , 4C083EE27 , 4C083EE28 , 4C083EE29 , 4C083FF01 , 4C083FF05 , 4C090AA02 , 4C090BA41 , 4C090BA92 , 4C090BC12 , 4C090BD03 , 4C090BD15 , 4C090BD34 , 4C090CA36 , 4C090DA04 , 4C090DA26 , 4H003AB22 , 4H003AB23 , 4H003AB31 , 4H003AC13 , 4H003AD04 , 4H003DA02 , 4H003EA19 , 4H003EB04 , 4H003EB09 , 4H003EB16 , 4H003EB28 , 4H003EB41 , 4H003ED02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

特公昭47-20635号公報(第5頁)
洗浄料組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-123552 Applicant：株式会社資生堂
化粧品基材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-355303 Applicant：日澱化學株式会社

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