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J-GLOBAL ID:200903017518702420
成膜方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 洋介 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998323329
Publication number (International publication number):2000144414
Application date: Nov. 13, 1998
Publication date: May. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】 一般的なプラズマ成膜装置を用いて、電気的絶縁性の膜材料を不純物を混入させることなく被処理物表面上に確実に成膜できる成膜方法を提供する。【解決手段】 絶縁物から成る絶縁物粒間に導電性物質を介在させたものを膜材料200として用いる。
Claim (excerpt):
真空室内にてハースに収容した膜材料をプラズマビームによって蒸発させることによって絶縁性膜を被処理物体に付着させる成膜方法において、絶縁物から成る絶縁物粒間に導電性物質を介在させたものを前記膜材料として用いることを特徴とする成膜方法。
IPC (3):
C23C 14/38
, C23C 14/06
, C23C 14/08
FI (3):
C23C 14/38
, C23C 14/06 A
, C23C 14/08 J
F-Term (16):
4K029BA43
, 4K029BA44
, 4K029BA46
, 4K029BA48
, 4K029BA49
, 4K029BA58
, 4K029BA60
, 4K029CA03
, 4K029CA13
, 4K029DA02
, 4K029DA04
, 4K029DB05
, 4K029DB10
, 4K029DB11
, 4K029DD05
, 4K029KA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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蒸着用成形物およびそれを用いた真空蒸着方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-128761
Applicant:東洋インキ製造株式会社
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珪素酸化物蒸着用材料及び蒸着フィルム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-200318
Applicant:信越化学工業株式会社, 日本真空技術株式会社
-
ガスバリヤーフィルムおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-129270
Applicant:東燃株式会社
-
イオンプレーティング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-053325
Applicant:株式会社ニコン
-
真空成膜方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-264192
Applicant:日本板硝子株式会社
-
真空成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-118955
Applicant:住友重機械工業株式会社
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