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J-GLOBAL ID：200903017613591341

アライメントスコープの位置校正装置及びその方法

Inventor：
山本 正昭

About 山本 正昭

, 
城田 浩行

About 城田 浩行


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999143067
Publication number (International publication number)：2000329523
Application date： May. 24, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：
【要約】【課題】 基準マスクを用いることにより、アライメントスコープの位置校正を容易にかつ精度良く行うことができる。【解決手段】 載置テーブル15に載置されたプリント回路基板Sに対して処理部21で所定の処理を施すのに先立ち、プリント回路基板Sの計測を行うアライメントスコープ33の位置を校正する装置において、基準パターンPRが形成された基準マスクRMを載置テーブル15に備え、所定位置の基準パターンPRにアライメントスコープ33を移動した後、基準パターンPRの交点とアライメントスコープの視野中心との位置ずれ量に基づいてアライメントスコープ33の位置校正を行う。リニアスケールなどの測長機器が必要がなく、簡易な構成でアライメントスコープの位置校正を容易にかつ高精度に実施することができる。
Claim (excerpt)：
載置台に載置された処理対象物に対して処理部で所定の処理を施すのに先立ち、処理対象物の計測を行うアライメントスコープの位置を校正する装置において、アライメントスコープが移動可能な範囲に2次元の基準パターンが形成された基準マスクを前記載置台に備えるとともに、前記基準マスクに形成された所定位置の基準パターンにアライメントスコープを移動した後、前記所定位置の基準パターンとアライメントスコープとの位置ずれ量に基づいてアライメントスコープの位置校正を行うようにしたことを特徴とするアライメントスコープの位置校正装置。
IPC (2)：
G01B 11/00 ,  G03F 9/00
FI (2)：
G01B 11/00 H ,  G03F 9/00 Z
F-Term (12)：
2F065AA03 ,  2F065CC00 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR03 ,  2H097KA13 ,  2H097KA28 ,  2H097LA09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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