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J-GLOBAL ID：200903017840152974

放射線感光材料及びパタ-ンの形成方法

Inventor： 矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  並木 崇久 ,  野崎 耕司 ,  小沢 美和 ,  今 純一
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999065290
Publication number (International publication number)：2000035664
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Feb. 02, 2000
Summary：

【要約】【課題】 放射線感光材料及びその放射線感光材料を用いたパターン形成方法に関し、露光部と未露光部とにおける現像液に対する溶解速度の差を向上しうる放射線感光材料及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 被膜形成性の重合体よりなる基材樹脂と、感光剤と、一般式【化40】(式中、R1は炭素数2〜30の原子団を表し;R2は水素、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基又は炭素数1〜10のハロアルキル基を表し;nは2〜8の整数を表し;mは1〜6の整数を表す。)で示されるラクトン誘導体化合物と、基材樹脂、感光剤及びラクトン誘導体化合物を溶解する溶剤とを有するように構成する。

Claim (excerpt)：

被膜形成性の重合体よりなる基材樹脂と、感光剤と、一般式【化1】(式中、R1は炭素数2〜30の原子団を表し;R2は水素、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基又は炭素数1〜10のハロアルキル基を表し;nは2〜8の整数を表し;mは1〜6の整数を表す。)で示されるラクトン誘導体化合物と、前記基材樹脂、前記感光剤及び前記ラクトン誘導体化合物を溶解する溶剤とを有することを特徴とする放射線感光材料。

IPC (4)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-312722   Applicant：富士通株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-097155   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-110414   Applicant：住友化学工業株式会社
• 特開昭62-151846