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J-GLOBAL ID：200903037087416328

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 難波 克彦 ,  舘川 香 ,  森馬 洋 ,  上谷 保則
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995110414
Publication number (International publication number)：1996305014
Application date： May. 09, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 諸性能に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 (A)キノンジアジド系化合物、(B)アルカリ可溶性樹脂、ならびに(C)2-ヘプタノン、乳酸エチルおよびγ-ブチロラクトンを含む溶剤系を含有してなるポジ型レジスト組成物。【効果】 キノンジアジド系化合物の溶解性に優れ、感度、プロファイル、塗布性などのレジスト諸性能にも優れている。

Claim (excerpt)：

(A)キノンジアジド系化合物、(B)アルカリ可溶性樹脂、ならびに(C)2-ヘプタノン、乳酸エチルおよびγ-ブチロラクトンを含む溶剤系を含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-037750   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型感放射線性レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-287648   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-316501   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-316499   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-316500   Applicant：住友化学工業株式会社