分光分析装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：北村修一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000296855
Publication number (International publication number)：2002107303
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】回り込み光による計測誤差の発生を抑制して、精度よく計測することが可能となる分光分析装置を提供する。【解決手段】被計測物Mを計測箇所を経由して搬送する搬送手段4が設けられ、計測箇所に位置する被計測物Mに対して光を投射する投光手段1と、投光手段1から投射されて、被計測物Mを透過した光を受光する受光手段2とが、計測箇所の左右両側箇所に振り分けて配置され、受光手段2の計測結果に基づいて被計測物Mの内部品質情報を求める演算処理部3を備えて構成され、計測箇所に、被計測物Mが通過することを許容しながら、投光手段1から投射した光のうち被計測物Mを透過することなく受光手段2に入射しようとする回り込み光を遮断する遮光手段30が備えられる。

Claim (excerpt)：

被計測物を計測箇所を経由して搬送する搬送手段が設けられ、前記計測箇所に位置する前記被計測物に対して光を投射する投光手段と、投光手段から投射されて、前記被計測物を透過した光を受光する受光手段とが、前記計測箇所の左右両側箇所に振り分けて配置され、前記受光手段の計測結果に基づいて被計測物の内部品質情報を求める演算処理部を備えて構成されている分光分析装置であって、前記計測箇所に、前記被計測物が通過することを許容しながら、前記投光手段から投射した光のうち前記被計測物を透過することなく前記受光手段に入射しようとする回り込み光を遮断する遮光手段が備えられている分光分析装置。

IPC (4)：

G01N 21/85 , G01N 21/35 , G01N 21/84 , G01N 33/02

FI (4)：

G01N 21/85 A , G01N 21/35 Z , G01N 21/84 C , G01N 33/02

F-Term (34)：

2G051AA05 , 2G051AB06 , 2G051AB20 , 2G051AC21 , 2G051BA06 , 2G051BA20 , 2G051BB07 , 2G051BC03 , 2G051CA03 , 2G051CB02 , 2G051CC07 , 2G051CC15 , 2G051DA06 , 2G051EA24 , 2G059AA01 , 2G059BB11 , 2G059DD02 , 2G059DD12 , 2G059DD15 , 2G059EE01 , 2G059EE12 , 2G059FF06 , 2G059HH01 , 2G059HH06 , 2G059JJ02 , 2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ14 , 2G059JJ26 , 2G059KK04 , 2G059LL04 , 2G059MM14 , 2G059NN05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

多波長同時発振レーザ光源及びそれを用いた菜果の成分計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-301378 Applicant：石川島播磨重工業株式会社
分光分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-163477 Applicant：株式会社クボタ
林檎の内部品質検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-028744 Applicant：岸本昭

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