薄膜構造体の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村暁秀 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999126680
Publication number (International publication number)：2000317900
Application date： May. 07, 1999
Publication date： Nov. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】高い生産性と高い再現性とを有し、成形後の形状安定性に優れた薄膜構造体の製造方法を提供する。【解決手段】過冷却液体域を有する非晶質材料からなる薄膜を所定に基板上に形成する。そして、この薄膜を前記過冷却液体域に加熱し、機械的な外力、静電的な外力などによって湾曲させ、薄膜構造体を形成する。そして、前記過冷却液体域から室温まで冷却することによって前記薄膜の変形を終了させる。

Claim (excerpt)：

過冷却液体域を有する非晶質材料からなる薄膜を立体的に変形させてなることを特徴とする、薄膜構造体。

IPC (6)：

B81C 1/00 , C03B 23/00 , C22C 45/00 , C23C 30/00 , C23C 14/35 , G01R 1/073

FI (6)：

B81C 1/00 , C03B 23/00 , C22C 45/00 , C23C 30/00 Z , C23C 14/35 Z , G01R 1/073 F

F-Term (40)：

2G011AA03 , 2G011AA10 , 2G011AA16 , 2G011AA21 , 2G011AB06 , 2G011AF07 , 4K029AA06 , 4K029BA06 , 4K029BA07 , 4K029BA09 , 4K029BA12 , 4K029BA21 , 4K029BA25 , 4K029BA41 , 4K029BA43 , 4K029BA52 , 4K029BB10 , 4K029BC00 , 4K029BD03 , 4K029CA01 , 4K029CA05 , 4K029GA05 , 4K029HA07 , 4K044AA11 , 4K044BA02 , 4K044BA06 , 4K044BA08 , 4K044BA14 , 4K044BA18 , 4K044BB01 , 4K044BB10 , 4K044BB17 , 4K044BC05 , 4K044BC07 , 4K044CA13 , 4K044CA14 , 4K044CA48 , 4K044CA62 , 4K044CA64 , 4K044CA67

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

非晶質合金製の梁構造体とその作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-283624 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
ウォームキャリア赤外線検出素子及び該素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-042973 Applicant：本田技研工業株式会社
研磨装置及び研磨方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-069055 Applicant：カヤバ工業株式会社

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