レジスト塗布組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993059928
Publication number (International publication number)：1994011836
Application date： Mar. 19, 1993
Publication date： Jan. 21, 1994
Summary：

【要約】【構成】オニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、スルホン化合物、ニトロベンジル化合物およびスルホネート化合物よりなる群から選ばれる感放射線性酸形成剤、並びに3-メトキシプロピオン酸メチルおよび3-エトキシプロピオン酸エチルから選ばれる少なくとも1種の溶媒を含有するポジ型またはネガ型レジスト塗布組成物。【効果】本発明のレジスト塗布組成物は、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるレジスト塗布組成物として好適である。また、本発明のレジスト塗布組成物はi線などの紫外線、エキシマレーザーなどの遠紫外線、シンクロトロン放射線などのX線、電子線などの荷電粒子線といった、放射線のいずれにも対応できるので、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デバイス製造用のレジストとして有利に使用できる。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)オニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、スルホン化合物、ニトロベンジル化合物およびスルホネート化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の感放射線性酸形成剤、(c)(a)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性を制御する性質を有し、そして酸の存在下で分解されて(a)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性制御効果を低下もしくは消失する性質または(a)のアルカリ可溶性樹脂のアルカリ溶解性を促進する性質を発現する化合物、および(d)3-メトキシプロピオン酸メチルおよび3-エトキシプロピオン酸エチルから選ばれる少なくとも1種の溶媒を含有することを特徴とするポジ型レジスト塗布組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/022 , G03F 7/038 505 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-352756 Applicant：和光純薬工業株式会社
フォトレジスト組成物及びフォトレジスト像形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-331268 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
ネガ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-294623 Applicant：三菱化成株式会社

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Cited by examiner (15)

特開平3-192173
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-352756 Applicant：和光純薬工業株式会社
特開平3-223867

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