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J-GLOBAL ID:200903019447687400

炭化珪素単結晶の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 伊藤 洋二 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997213546
Publication number (International publication number):1999060390
Application date: Aug. 07, 1997
Publication date: Mar. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】 結晶の形及び結晶面の整った良質な炭化珪素単結晶を容易に製造できる方法を提供する。【解決手段】 炭化珪素原料粉末2の温度を2200〜2300°Cにして、炭化珪素単結晶基板5の温度が前記炭化珪素原料粉末2の温度より50〜100°C低い温度に到達後、不活性ガス雰囲気の圧力を2段以上の多段階に減圧する。その多段階に減圧する圧力を、第1段階で200〜500Torr、第2段階で100〜200Torr、第3段階で1〜10Torrの領域にし、さらに不活性ガス雰囲気の圧力の減圧開始から結晶成長する圧力に到達するまでの減圧時間を10分以上の時間をかけてゆっくり減圧する。これにより、結晶成長の初期成長速度を制御し、良質な炭化珪素単結晶の格子に従って、結晶の形、結晶面の整った良質な炭化珪素単結晶7が成長する。
Claim (excerpt):
炭化珪素原料粉末(2)を不活性ガス雰囲気中で加熱昇華させ、前記炭化珪素原料粉末(2)より低温になっている炭化珪素単結晶基板(5)の表面に炭化珪素単結晶(7)を結晶成長させる炭化珪素単結晶の製造方法において、前記炭化珪素原料粉末(2)の温度及び、前記炭化珪素単結晶基板(5)の温度が結晶成長温度に到達したのち、前記不活性ガス雰囲気の圧力を複数段階に減圧して、前記炭化珪素単結晶(7)の結晶成長の初期における成長速度を制御することを特徴とする炭化珪素単結晶の製造方法。
IPC (5):
C30B 29/36 ,  C30B 23/02 ,  C30B 27/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 33/00
FI (5):
C30B 29/36 A ,  C30B 23/02 ,  C30B 27/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 33/00 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
  • 特開昭59-035099
  • 特開昭55-149199
  • 特開昭62-066000
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Cited by examiner (1)
  • 特開昭59-035099

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