偏光ビームスプリッタ及びこのビームスプリッタを用いる光磁気再生装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉村暁秀 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995502618
Publication number (International publication number)：1996503315
Application date： Jun. 23, 1994
Publication date： Apr. 09, 1996
Summary：

【要約】光偏光ビームスプリッタは、補償積層体(11〜13)及びことと隣接する偏光積層体88〜10)を構成する薄膜88〜12)の積層体を有する。偏光積層体は第1の屈折率n<SB>w</SB>の層と第2の屈折率n<SB>h</SB>の層とが交互に形成された複数の順次の層を有する。補償積層体は1/4波長の厚さを有すると共に、n<SB>1</SB>,n<SB>2</SB>及びn<SB>3</SB>(n<SB>3</SB><n<SB>2</SB>〈n<SB>1</SB>)の屈折率を有する3個の順次層を有するるこの補償積層体により、ビームスプリッタを通過した透過光又は反射光の2個の直交する方向の偏光成分間の位相差を最小にする。このビームスプリッタは、発散性光ビーム又は集束性光ビームを所定の偏光成分に分割する光学装置に用いるのが好適である。

Claim (excerpt)：

所定の波長を有する非平行な光ビームを偏光状態が互いに相異する2本のサブビームに分離する偏光ビームスプリッタであって、複数の薄い層から成る偏光積層体が形成されている偏光ビームスプリッタにおいて、前記偏光積層体を通過する際に生ずる位相不整合を補償する補償手段を具えることを特徴とする偏光ビームスプリッタ。

IPC (4)：

G02B 5/30 , G02B 27/28 , G11B 7/135 , G11B 11/10 551

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

多層偏光分離膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-056351 Applicant：旭光学工業株式会社
偏光変換合成素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-102984 Applicant：トヨタ自動車株式会社
回折格子型偏光子とその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-170938 Applicant：ティーディーケイ株式会社

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