Pat
J-GLOBAL ID：200903019499524356

板状ワークの洗浄装置

Inventor：
石田 貴久

About 石田 貴久


Applicant, Patent owner：
日立電子エンジニアリング株式会社

About 日立電子エンジニアリング株式会社


Agent (1)： 影井 俊次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000004522
Publication number (International publication number)：2001195731
Application date： Jan. 13, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：
【要約】【課題】 洗浄後のワークにおける表面検査を行って、洗浄不良品の数が多い時には、洗浄条件を変更することにより、洗浄不良となっていることに起因するワークの排除を抑制すると共に洗浄効率を高める。【解決手段】 超音波洗浄部1と、スクラブ洗浄部2と、リンス部3と、乾燥部4とから構成される洗浄部5には表面検査部6が付設されており、洗浄後のワークWは表面検査部6に移行させて、この表面検査部6で検出される表面欠陥のうち、パーティクル欠陥及びステイン欠陥を持った洗浄不良品のワークWが像かすると、コントローラ10により洗浄条件、ロールブラシ20のワークWへの押圧力とその回転数等を変更する。
Claim (excerpt)：
板状ワークの表面を洗浄するために、1または複数の洗浄工程と、洗浄後にワークを乾燥する乾燥工程とを含む洗浄機構部と、洗浄・乾燥後のワークの表面の欠陥検査を行う表面検査部と、この表面検査部の検出結果からワークの洗浄精度を判定して、洗浄精度が低下したことを検出した時には、前記洗浄機構部における洗浄条件を変化させるコントローラとを備える構成としたことを特徴とする板状ワークの洗浄装置。
IPC (5)：
G11B 5/84 ,  B08B 1/02 ,  B08B 1/04 ,  G01B 11/30 ,  H01L 21/304 648
FI (5)：
G11B 5/84 Z ,  B08B 1/02 ,  B08B 1/04 ,  G01B 11/30 A ,  H01L 21/304 648 G
F-Term (35)：
2F065AA49 ,  2F065BB01 ,  2F065BB03 ,  2F065CC03 ,  2F065CC19 ,  2F065FF41 ,  2F065FF44 ,  2F065FF48 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ15 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT00 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB34 ,  3B116BA02 ,  3B116BA14 ,  3B116BB02 ,  3B116BB22 ,  3B116BB33 ,  3B116BB62 ,  3B116BB85 ,  3B116CC03 ,  3B116CC05 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  5D112AA24 ,  5D112GA08 ,  5D112GA10 ,  5D112GA16 ,  5D112JJ05 ,  5D112KK06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • ガラス基板のライン検査方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-017556   Applicant：日本板硝子株式会社
  • ウェハーの洗浄装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-106382   Applicant：株式会社リコー
  • マスク洗浄機
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-045120   Applicant：山形日本電気株式会社

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM