縦型熱処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井上俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998293047
Publication number (International publication number)：2000114193
Application date： Sep. 30, 1998
Publication date： Apr. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】基板保持具を回転させながら高温で熱処理を行い、かつ反応管内と外部とを確実にシールすること。【解決手段】蓋体5を貫通して回転軸53を設けるとともに、回転軸53と軸穴55との間に隙間を設け、その隙間を反応管2内の雰囲気に通ずるラビリンス57,58に連通接続すると共に、ガス供給路56を介してその隙間にN2 ガス等を流すことによって、回転軸53と軸穴55との間をN2 カーテンによりシールし、炉内雰囲気の漏出を防ぎながらウエハWを回転させて高温で熱処理を行う。それによって高い面内均一性を得ると共に、ベアリング軸受けを用いることができるので軸ぶれのおそれがなく、熱処理後、反応管2からウエハボート4を引き出したまま、その場でウエハWの移載を行うことを可能とする。

Claim (excerpt)：

複数の基板を棚状に保持した保持具を断熱部材を介して蓋体の上に載せ、この蓋体を昇降機構により上昇させて縦型の反応管内に保持具を搬入して、反応管の下端開口部を蓋体により気密に塞ぎ、反応管内を常圧、加熱雰囲気にして基板を加熱処理する縦型熱処理装置において、前記蓋体の中央部に形成された軸穴と、この軸穴内に3mm以下の隙間を介して挿入され、前記保持具を回転自在に支持するための回転軸と、この回転軸を回転駆動する回転駆動機構と、前記回転軸と軸穴との間の前記隙間に不活性ガスを供給してガスパージを行うためのガス供給路と、前記反応管内の雰囲気と前記隙間との間を連通接続するラビリンスと、を具備することを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/22 511 , H01L 21/22

FI (2)：

H01L 21/22 511 R , H01L 21/22 511 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-088976 Applicant：東京エレクトロン東北株式会社
縦型反応炉
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-115379 Applicant：国際電気株式会社
特開平4-026115

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