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J-GLOBAL ID：200903019711224406

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003137840
Publication number (International publication number)：2004341247
Application date： May. 15, 2003
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：
【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、露光マージンの優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A1)及び別の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A2)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有するポジ型レジスト組成物、または、特定の繰り返し単位、及び別の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A3)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A1)、 下記一般式(2)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A2)、 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び 溶剤(C) を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (2)：
G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (2)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (15)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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