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J-GLOBAL ID：200903017417009170

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001188414
Publication number (International publication number)：2003005374
Application date： Jun. 21, 2001
Publication date： Jan. 08, 2003
Summary：
【要約】【課題】 SEM耐性及び解像性に優れ、デフォーカスラチチュードが改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定のラクトンモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂の2種以上のブレンドと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)(a1)ブチロラクトン類、(a2)ノルボルナンラクトン類、(a3)シクロヘキサンラクトン類、及び(a4)アダマンタンラクトン類から選ばれる少なくとも1種のモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を少なくとも2種、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、該樹脂(A)の混合物が上記(a1)〜(a4)のモノマー単位のうち少なくとも2種を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (10)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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