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J-GLOBAL ID：200903046090449813

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦

, 
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001196794
Publication number (International publication number)：2003015296
Application date： Jun. 28, 2001
Publication date： Jan. 15, 2003
Summary：
【要約】【課題】解像力、露光マージン、パターンのエッジラフネス、疎密依存性の諸特性に優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】(A)カチオン部がヨードニウム又はスルホニウムで構成され、アニオン部がRFSO3-(式中、RFは、炭素数1〜20のフッ素置換されたアルキル基である)で示されるアニオンで構成されているスルホン酸塩から選択され、かつ、アニオン部のRFの炭素数の差が2〜15の範囲にある少なくとも二つの活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤、及び(B)特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)カチオン部がヨードニウム又はスルホニウムで構成され、アニオン部がRFSO3-(式中、RFは、炭素数1〜20のフッ素置換されたアルキル基である)で示されるアニオンで構成されているスルホン酸塩から選択され、かつ、アニオン部のRFの炭素数の差が2〜15の範囲にある少なくとも二つの活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤、及び(B)下記一般式(I-1)〜(I-4)の少なくともいずれかで表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(I-1)〜(I-4)中;R1〜R5は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1〜R5の内の2つは、結合して環を形成してもよい。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (11)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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