ステンシルマスク、その製造方法及び露光方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001186841
Publication number (International publication number)：2003007590
Application date： Jun. 20, 2001
Publication date： Jan. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】薄膜化が容易で、応力制御を行うことが可能であるとともに、電子線照射特性の優れたステンシルマスクを提供すること。【解決手段】基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する、炭素を主成分とする薄膜からなることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有し、炭素を主成分とする薄膜からなることを特徴とするステンシルマスク。

IPC (4)：

H01L 21/027 , C23C 16/04 , G03F 1/16 , G03F 7/20 521

FI (4)：

C23C 16/04 , G03F 1/16 B , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 541 S

F-Term (14)：

2H095BA08 , 2H095BC05 , 2H095BC08 , 4K030AA01 , 4K030AA10 , 4K030AA13 , 4K030BA28 , 4K030BB03 , 4K030CA04 , 4K030DA05 , 4K030FA01 , 4K030LA11 , 5F056AA22 , 5F056FA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

電子線描画用マスクブランクス、電子線描画用マスクおよび電子線描画用マスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-156726 Applicant：ホーヤ株式会社
転写マスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-357055 Applicant：ホーヤ株式会社
ステンシル・マスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-239680 Applicant：セイコーエプソン株式会社

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