Pat
J-GLOBAL ID：200903033724082638

電子線描画用マスクブランクス、電子線描画用マスクおよび電子線描画用マスクの製造方法

Inventor：
雨宮 勲

About 雨宮 勲


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000156726
Publication number (International publication number)：2001077013
Application date： May. 26, 2000
Publication date： Mar. 23, 2001
Summary：
【要約】【課題】 電子の透過と散乱が制御され、ビームコントラストが良好で、露光電子の損失が少なく、色収差の影響を低減でき、露光時間を短縮化できる電子線描画用マスク等を提供する【解決手段】 電子線を透過するパターン支持膜6と、前記パターン支持膜上に形成された電子線散乱体パターン5と、前記パターン支持膜6および前記電子線散乱体パターン5を支持する支持体3とを有する電子線描画用マスクにおいて、前記パターン支持膜6について、膜厚が0.005μm〜0.2μmであり、膜材料密度が1.0〜5.0g/cm3であり、弾性率が0.8×1011Pa以上であって、かつ、前記電子線散乱体パターン5について、膜厚が0.2〜2μmであり、膜材料密度が1.0〜5.0g/cm3であり、弾性率が0.8×1011Pa以上であることを特徴とする電子線描画用マスク。
Claim (excerpt)：
電子線を透過するパターン支持層と、前記パターン支持層上に形成された電子線散乱層と、前記パターン支持層と前記電子線散乱層とを支持する支持体とを有する電子線描画用マスクブランクスにおいて、前記電子線散乱層が、炭素元素及び/又は珪素元素を主成分としてなる材料からなることを特徴とする電子線描画用マスクブランクス。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16
FI (2)：
H01L 21/30 541 S ,  G03F 1/16 B
F-Term (11)：
2H095BA08 ,  2H095BB31 ,  2H095BB37 ,  2H095BC05 ,  2H095BC09 ,  2H095BC24 ,  2H095BC27 ,  5F056AA22 ,  5F056AA27 ,  5F056FA05 ,  5F056FA07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM