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J-GLOBAL ID：200903020149324697

基板温度制御機構

Inventor： 梨本 清 ,  佐長谷 肇 ,  高橋 信行
Applicant, Patent owner： アネルバ株式会社
Agent (1)： 保立 浩一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996286139
Publication number (International publication number)：1998116885
Application date： Oct. 08, 1996
Publication date： May. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ヒータの他に別途特別な構成を基板ホルダー内に必要とすることなく基板温度がモニタでき、基板の温度分布をリアルタイムで容易にモニタできるようにする。【解決手段】 面接触して基板20を保持する基板ホルダー21内には、複数の加熱ブロック221,222からなり抵抗発熱方式のヒータ22が設けられている。ヒータ22の温度をモニタするモニタ手段23は、電流電圧検出器231,232と演算器233とから構成され、ヒータ22の抵抗値を求めてヒータ22の温度を算出する。各加熱用ブロック221,222の温度のデータから基板20の温度分布がモニタされる。

Claim (excerpt)：

基板に対して面接触して基板を保持する基板ホルダーと、電気エネルギーを熱エネルギーに変換して基板を加熱するものであって基板ホルダー内に設けられたヒータと、ヒータに対して電力を供給する電源とを具備した基板温度制御機構において、ヒータの電気特性からヒータの温度を算出して間接的に基板の温度をモニタするモニタ手段を備えていることを特徴とする基板温度制御機構。

IPC (4)：

H01L 21/68 ,  F27B 5/14 ,  F27B 5/18 ,  H01L 21/205

FI (4)：

H01L 21/68 N ,  F27B 5/14 ,  F27B 5/18 ,  H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 試料処理装置および試料処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-018419   Applicant：株式会社日立製作所
• プラズマ気相成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-014881   Applicant：日本電気株式会社
• 静電チャック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-260816   Applicant：富士電機株式会社
• 基板の温度制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-247898   Applicant：株式会社東芝

Cited by examiner (4)

• 試料処理装置および試料処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-018419   Applicant：株式会社日立製作所
• プラズマ気相成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-014881   Applicant：日本電気株式会社
• 静電チャック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-260816   Applicant：富士電機株式会社
• 基板の温度制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-247898   Applicant：株式会社東芝