Pat
J-GLOBAL ID:200903020321144442
電界効果トランジスタおよびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006326785
Publication number (International publication number):2008141040
Application date: Dec. 04, 2006
Publication date: Jun. 19, 2008
Summary:
【課題】低いオン抵抗を実現可能な構造を有する、窒化物半導体を用いたエンハンスメント(ノーマリーオフ)型電界効果トランジスタ、とその製造方法の提供。【解決手段】AlGaN電子供給層104上に、それと同じか、より大きなAl組成のAlGaNからなり、n型不純物が2×1019cm-3以上ドーピングされ、厚さが2〜10nm範囲のコンタクト層105を設け、ソース電極106とドレイン電極107の間の一部でコンタクト層105をエッチング除去して形成する第1のリセス110と、第1のリセス内の一部で電子供給層104を薄くして形成する第2のリセス112とを有し、第2のリセス内をゲート絶縁膜113とT型ゲート電極108で隙間なく埋め込み、T型ゲート電極108の傘の下の絶縁膜109による段差を利用して自己整合的にT型ゲート電極108に隣接してコンタクト層105上にオーミック補助電極114を形成する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
窒化物半導体を用いた電界効果トランジスタであって、
前記窒化物半導体の層状構造は、
GaNまたはInGaNからなる電子走行層と、
AlGaNからなる電子供給層と、
AlGaNからなるコンタクト層がこの順に積層された構造を含み;
該電界効果トランジスタは、
前記コンタクト層上に形成されたソース電極とドレイン電極と、
該ソース電極と該ドレイン電極との間に設けるT型ゲート電極を具えており;
前記T型ゲート電極を設ける領域には、
該ソース電極と該ドレイン電極との間の一部で、前記コンタクト層をエッチング除去して形成される第1のリセスと、
前記コンタクト層上、前記第1のリセス以外の領域で該T型ゲート電極の傘の下に形成されている第1の絶縁膜と、
前記第1のリセス中の一部で、前記電子供給層の膜厚を薄くして形成される第2のリセスと、
該第1のリセス内で、該第2のリセス以外の領域に形成される、第2の絶縁膜からなる側壁と、
該第2のリセス内、ならびに、該第2の絶縁膜からなる側壁上および該第1の絶縁膜上に形成されているゲート絶縁膜が設けられ;
該T型ゲート電極は、該ゲート絶縁膜上に隙間なく埋め込まれて形成されており;
前記T型ゲート電極を設ける領域を除く該コンタクト層上で、前記第1の絶縁膜の形成がなされていない領域上、該ソース電極上および該ドレイン電極上、ならびに、該T型ゲート電極上に形成されているオーミック補助電極を具えている
ことを特徴とする窒化物半導体を用いた電界効果トランジスタ。
IPC (5):
H01L 21/338
, H01L 29/778
, H01L 29/812
, H01L 29/78
, H01L 21/28
FI (3):
H01L29/80 H
, H01L29/78 301B
, H01L21/28 301B
F-Term (66):
4M104AA04
, 4M104BB05
, 4M104BB06
, 4M104BB07
, 4M104BB14
, 4M104CC01
, 4M104CC05
, 4M104DD78
, 4M104EE02
, 4M104EE09
, 4M104EE17
, 4M104FF07
, 4M104FF13
, 4M104FF27
, 4M104GG09
, 4M104GG10
, 4M104GG12
, 4M104GG14
, 5F102FA02
, 5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD01
, 5F102GK04
, 5F102GL04
, 5F102GM04
, 5F102GN04
, 5F102GQ01
, 5F102GR04
, 5F102GS01
, 5F102GS04
, 5F102GT01
, 5F102HC16
, 5F140AA30
, 5F140BA06
, 5F140BA09
, 5F140BA16
, 5F140BB06
, 5F140BB18
, 5F140BC12
, 5F140BC15
, 5F140BD07
, 5F140BE03
, 5F140BE10
, 5F140BF05
, 5F140BF11
, 5F140BF15
, 5F140BF17
, 5F140BF21
, 5F140BF25
, 5F140BF42
, 5F140BF43
, 5F140BG09
, 5F140BG14
, 5F140BH21
, 5F140BH49
, 5F140BJ05
, 5F140BJ11
, 5F140BJ17
, 5F140BK27
, 5F140BK29
, 5F140BK32
, 5F140BK33
, 5F140BK38
, 5F140CE02
, 5F140CE20
, 5F140CF00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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高電子移動度トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-423639
Applicant:古河電気工業株式会社
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半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-116342
Applicant:株式会社日立製作所
-
特開平4-096338
-
バリヤ層を使用する半導体デバイス
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-581338
Applicant:モトローラ・インコーポレイテッド
-
半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-285778
Applicant:株式会社リコー
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Cited by examiner (4)
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半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-116342
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平4-096338
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バリヤ層を使用する半導体デバイス
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-581338
Applicant:モトローラ・インコーポレイテッド
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半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-285778
Applicant:株式会社リコー
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