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J-GLOBAL ID:200903020321293081
酸化チタン膜の製造方法及び酸化チタン分散液組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
梅田 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997012095
Publication number (International publication number):1998212120
Application date: Jan. 27, 1997
Publication date: Aug. 11, 1998
Summary:
【要約】【課題】 大きな比表面積を有し、クラックの発生が少なく、支持体との接着性が良好な酸化チタン膜を得ることができず、特に、光学材料、光電変換材料、太陽電池、電子材料、触媒、光触媒、触媒担体、吸着剤、紫外線吸収剤などに適した比表面の大きい多孔質の酸化チタン膜を得ることが難しかった。【解決手段】 一般式HO-(-CH2CH2O-)n-Rで示されるグライム系溶剤を含有する分散溶剤を用いた酸化チタン分散液を支持体上に塗布、焼成することにより、酸化チタン粒子を支持体上に固着させて、可視光領域において透明である多孔質の酸化チタン膜を製造する。
Claim (excerpt):
以下の一般式(I)で示されるグライム系溶剤に酸化チタン粒子を分散させることにより酸化チタン分散液を作製し、前記酸化チタン分散液を支持体に塗布し、次いで、焼成することを特徴とする酸化チタン膜の製造方法。HO-(-CH2CH2O-)n-R (I)(ここで、Rは置換基を有しても良いアルキル基あるいはアリール基のいずれかを表し、nは1〜10である。)
IPC (3):
C01G 23/04
, B01J 19/00
, C03C 17/25
FI (3):
C01G 23/04 Z
, B01J 19/00 K
, C03C 17/25 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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酸化チタン膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-344391
Applicant:石原産業株式会社
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特開平4-220468
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スピンコーティング用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-162248
Applicant:三菱化学株式会社
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セラミツク基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-315965
Applicant:株式会社富士通ゼネラル
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特開平2-141419
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スタンプ用顔料インキ組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-291011
Applicant:三菱鉛筆株式会社
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特開平4-202273
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