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J-GLOBAL ID：200903020387921431

機能水、その製造方法及び製造装置

Inventor： 榛原 照男 ,  上村 賢一 ,  加藤 昌明 ,  山田 邦晃 ,  錦 善則 ,  古田 常人
Applicant, Patent owner： ワッカー・エヌエスシーイー株式会社 ,  株式会社 ピュアトロン ,  ペルメレック電極株式会社
Agent (1)： 森 浩之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002099553
Publication number (International publication number)：2003290767
Application date： Apr. 02, 2002
Publication date： Oct. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】 従来より高い効率でフッ化物イオンを含む電解液を電解して洗浄効率の優れた機能水を提供する。【解決手段】 フッ化物イオンを含む水溶液を導電性ダイヤモンドを有する電極を用いて電解して得られる含フッ素成分を含有することを特徴とする機能水。フッ化物イオンを導電性ダイヤモンド電極を使用して電解生成される含フッ素成分)は、電解前のフッ化物イオン自体やフッ化物イオンを他の電極を使用して電解することにより得られる含フッ素成分よりも強力な洗浄効果を有し、フッ酸の使用量を大幅に節減できる。

Claim (excerpt)：

フッ化物イオンを含む水溶液を導電性ダイヤモンドを有する電極を用いて電解して得られる含フッ素成分を含有することを特徴とする機能水。

IPC (7)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/20 ,  C25B 1/24 ,  C25B 11/06 ,  C25B 11/12 ,  C25B 15/08 302 ,  H01L 21/304 647

FI (7)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/20 A ,  C25B 1/24 A ,  C25B 11/06 Z ,  C25B 11/12 ,  C25B 15/08 302 ,  H01L 21/304 647 Z

F-Term (33)：

4D037AA01 ,  4D037AB00 ,  4D037BA23 ,  4D037CA04 ,  4D061DA02 ,  4D061DB09 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB12 ,  4D061EB13 ,  4D061EB19 ,  4D061EB29 ,  4D061EB31 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061ED20 ,  4D061GB05 ,  4K011AA20 ,  4K011AA21 ,  4K011AA23 ,  4K011AA24 ,  4K011AA29 ,  4K011DA11 ,  4K021AB09 ,  4K021BA04 ,  4K021BB03 ,  4K021BC01 ,  4K021BC03 ,  4K021BC04 ,  4K021CA11 ,  4K021DB18 ,  4K021DB31 ,  4K021DC15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 過硫酸溶解水の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-374304   Applicant：ペルメレック電極株式会社
• 洗浄組成物及びそれを用いた半導体基板の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-069856   Applicant：三菱化学株式会社
• 電解用電極及び該電極を使用する電解槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-106379   Applicant：ペルメレック電極株式会社
• 超純水の製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-265808   Applicant：オルガノ株式会社

Cited by examiner (4)

• 過硫酸溶解水の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-374304   Applicant：ペルメレック電極株式会社
• 洗浄組成物及びそれを用いた半導体基板の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-069856   Applicant：三菱化学株式会社
• 電解用電極及び該電極を使用する電解槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-106379   Applicant：ペルメレック電極株式会社
• 超純水の製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-265808   Applicant：オルガノ株式会社