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J-GLOBAL ID:200903020664376250
磁気抵抗効果素子およびその製造方法並びに磁気メモリ装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
船橋 國則
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002179405
Publication number (International publication number):2004023015
Application date: Jun. 20, 2002
Publication date: Jan. 22, 2004
Summary:
【課題】各記憶素子間の反転磁界のばらつきおよびアステロイドのずれを抑制し、これにより各記憶素子への選択記録のマージンを大きく確保する。【解決手段】少なくとも二つの強磁性領域24,25,26,28とこれらに挟まれた非磁性層27とからなる積層構造を有し、一方の強磁性領域24,25,26の磁化方向が固定され、他方の強磁性領域28の磁化方向が外部磁界に応じて反転するように構成された磁気抵抗効果素子において、前記非磁性層27の前に成膜される強磁性領域26を、二種以上の異なる強磁性材料の積層体26a,26bからなるものとする。【選択図】 図4
Claim (excerpt):
少なくとも二つの強磁性領域とこれらに挟まれた非磁性層とからなる積層構造を有し、一方の強磁性領域の磁化方向が固定され、他方の強磁性領域の磁化方向が外部磁界に応じて反転するように構成された磁気抵抗効果素子において、
前記非磁性層の前に成膜される強磁性領域は、二種以上の異なる強磁性材料の積層体からなる
ことを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (4):
H01L43/08
, H01L27/105
, H01L43/10
, H01L43/12
FI (5):
H01L43/08 M
, H01L43/08 Z
, H01L43/10
, H01L43/12
, H01L27/10 447
F-Term (5):
5F083FZ10
, 5F083JA36
, 5F083JA37
, 5F083LA12
, 5F083LA16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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