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J-GLOBAL ID：200903020782115215
ホトマスク及びパタン形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994175088
Publication number (International publication number)：1996044036
Application date： Jul. 27, 1994
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：
【要約】【構成】半透明位相シフト部内の不要な光強度ピークが発生する位置に、透明主パタンと同位相の直接転写されない透明補助パタンを配置する。【効果】不要な光強度ピークが消失し、所望の転者パタン以外の不要なパタンの転写を防止でき、パタン形成歩留まりを向上できる。
Claim (excerpt)：
露光光に対して半透明な領域と、透明な領域とを含み、上記半透明な領域と、上記透明な領域とを通過する光の位相差がおよそ180°となるようにしたホトマスクにおいて、投影する透明主パタンの二辺あるいは二辺の延長線が≦250°の角度で交わる部分を有し、上記二辺に挟まれた半透明領域内にパタンとして転写されない、主パタンと同位相の透明補助パタンを配置したことを特徴とするホトマスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
