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J-GLOBAL ID：200903020788662366

有機高分子薄膜の作製方法およびその方法に用いる蒸着重合装置

Inventor： 松 岡 修 ,  山 本 貞 明 ,  小 野 昇 子 ,  宮 前 孝 行 ,  野 副 尚 一 ,  塚 越 清 美
Applicant, Patent owner： 三井化学株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 鈴木 俊一郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001077056
Publication number (International publication number)：2002275266
Application date： Mar. 16, 2001
Publication date： Sep. 25, 2002
Summary：

【要約】【解決手段】単独では重合しない原料モノマーを被蒸着基体表面上に蒸着する時に、プラズマ源で発生させたラジカルをビーム状にして、基体表面上へ照射することにより、原料モノマーに重合活性を付与し、重合薄膜を作製する。【効果】蒸着重合法において、従来、単独で基体上に蒸着するだけでは重合しなかった原料モノマーによる蒸着重合薄膜を作製することが可能となった。

Claim (excerpt)：

単独で被蒸着基体上に蒸着するだけでは該基体上で重合しない原料モノマーの重合薄膜を作製する方法であって、プラズマ源で発生させたラジカルをビーム状にして、原料モノマーを被蒸着基体上に蒸着するとともにビーム状にしたラジカルを被蒸着基体上に照射することにより、重合薄膜を作製することを特徴とする有機高分子薄膜作製方法。

IPC (3)：

C08G 83/00 ,  C08G 85/00 ,  C23C 14/12

FI (3)：

C08G 83/00 ,  C08G 85/00 ,  C23C 14/12

F-Term (8)：

4J031CA32 ,  4J031CA47 ,  4J031CA87 ,  4J031CE04 ,  4K029BA62 ,  4K029CA12 ,  4K029DA08 ,  4K029DB14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 蒸着重合方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-115743   Applicant：日本真空技術株式会社
• 高温超伝導薄膜の形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-011096   Applicant：富士通株式会社
• 特開平1-165603
  
• 表面処理方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-208570   Applicant：株式会社ブリヂストン, 岡崎幸子, 小駒益弘
• プラズマ重合による高分子薄膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-010193   Applicant：工業技術院長
• 特開昭62-209140
  
• 特開平1-165603
  
• 特開昭62-209140