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J-GLOBAL ID:200903021177138200
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993175861
Publication number (International publication number):1995128858
Application date: Jun. 24, 1993
Publication date: May. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 各種の放射線に有効に感応して、体積収縮、剥離不良および接着不良を来すことがなく、ドライエッチング耐性、リソグラフィプロセス安定性およびパターン形状に優れ、しかも現像性、感度および解像度も良好なポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 感放射線性樹脂組成物は、(イ)下記式で代表される、脂環式エステル基を含有する繰返し単位を有する置換ヒドロキシスチレン系重合体および(ロ)感放射線性酸発生剤を含有する。【化1】
Claim (excerpt):
(イ)下記一般式(1)で表される繰返し単位を有する重合体および(ロ)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1は水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を示し、R2およびR3は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜3のアルキル基を示し、R4およびR5は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜5のアルコキシアルキル基もしくは炭素数7〜12のアラルキル基を示し、R6は下記一般式(2)または(3)で表される1価の脂環式基を示す。【化2】【化3】{一般式(2)および(3)において、X は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、カルボニル基、カルボキシル基、炭素数1〜7のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数2〜5のアルコキシアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基または単環もしくは2環のアリール基であり、複数存在するX は相互に同一でも異なってもよく、aは0〜2nの整数、bは0〜2nの整数で、a+b=2nであり、nは2〜9の整数であり、cは0〜10の整数、dは0〜10の整数で、c+d=10である。}〕
IPC (5):
G03F 7/039 501
, C08F 12/14 MJY
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開平4-251259
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特開平4-321049
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-068630
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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パターン形成用レジストおよびパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-100310
Applicant:株式会社東芝
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-238253
Applicant:株式会社東芝
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特表平6-502260
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