テンプレートマッチング方法、および走査電子顕微鏡

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井上学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006166803
Publication number (International publication number)：2007334702
Application date： Jun. 16, 2006
Publication date： Dec. 27, 2007
Summary：

【課題】設計パターンをテンプレートとし、画像からテンプレートと一致するパターンを抽出するときに、画像に下地パターンが現れていても誤判断のないテンプレートマッチング方法、および走査電子顕微鏡を提供する。【解決手段】試料へ電子線を照射して発生する二次電子の情報を用いて試料を画像化する走査電子顕微鏡において、前記試料に加工するパターンの設計データからエッジを抽出し、該エッジをテンプレートとして登録する記憶部と、前記画像のパターンのエッジを抽出し該エッジと前記設計データのエッジとを比較して、前記画像のパターンと前記設計データとの一致度を判断する演算部とを備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

所望の領域内の設計データからエッジを抽出し、該エッジをテンプレートとして記憶し、画像のパターンのエッジを抽出し、該画像のパターンのエッジと前記設計データのエッジとを比較して、前記画像のパターンと前記設計データとの一致度を判断することを特徴とするテンプレートマッチング方法。

IPC (4)：

G06T 7/00 , H01J 37/22 , H01J 37/28 , G06T 7/60

FI (4)：

G06T7/00 300D , H01J37/22 502H , H01J37/28 B , G06T7/60 300A

F-Term (11)：

5C033UU05 , 5C033UU10 , 5L096BA03 , 5L096BA11 , 5L096CA01 , 5L096FA04 , 5L096FA06 , 5L096FA08 , 5L096HA07 , 5L096JA03 , 5L096JA09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

半導体検査システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-132668 Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (9)

走査電子顕微鏡の自動検出シーケンスファイル作成方法及び走査電子顕微鏡の自動測長シーケンス方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-038009 Applicant：富士通株式会社
画像処理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-147800 Applicant：アジアエレクトロニクス株式会社
パターンの位置合わせ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-195796 Applicant：日本アビオニクス株式会社

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