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J-GLOBAL ID:200903021415984904

リポソームの固定化方法、リポソームマイクロアレイチップおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 田中 光雄 ,  矢野 正樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004346720
Publication number (International publication number):2006153733
Application date: Nov. 30, 2004
Publication date: Jun. 15, 2006
Summary:
【課題】 溶液中で観察されるリポソームの形態を変更することなく、個々のリポソームを基板上に所定の配列パターンで固定化する方法を提供する。 【解決手段】 基板上に絶縁性レジスト膜を形成し、このレジスト膜に電子ビーム照射により表面イオン化した配列パターンを形成し、この表面イオン化した配列パターンに両性イオン性リポソームを静電相互作用により結合させ、かつ、個々のリポソーム同士は静電反発により、孤立状態に保たれ、膜融合、破壊、凝集体形成が防止されている。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
基板上にリポソームを固定化する方法であって、 (1)絶縁性基板上に形成された導電性薄膜上、または導電性基板上に形成された絶縁性レジスト膜の表面上の任意領域を表面イオン化する工程;および (2)表面イオン化された領域に、両性イオン性リポソームの溶液を接触させることによって、個々のリポソームを表面イオン化された領域に静電相互作用を介して固定化する工程を含み、 ここに、前記両性イオン性リポソームは、その構成成分として、少なくとも、コレステロール、両性イオン性リン脂質、および陰イオン性リン脂質または陽イオン性リン脂質のいずれかのイオン性リン脂質を含むことを特徴とする方法。
IPC (4):
G01N 27/416 ,  G01N 37/00 ,  G01N 27/327 ,  G01N 27/27
FI (6):
G01N27/46 336M ,  G01N37/00 102 ,  G01N27/30 351 ,  G01N27/46 336B ,  G01N27/30 357 ,  G01N27/46 A
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)

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