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J-GLOBAL ID：200903021738773864

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： 高田 佳幸 ,  李 榮濬 ,  落合 鋼志郎
Applicant, Patent owner： 住友化学株式会社
Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003367050
Publication number (International publication number)：2004359929
Application date： Oct. 28, 2003
Publication date： Dec. 24, 2004
Summary：

【課題】ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善された感度を与える化学増幅型のポジ型レジスト組成物及び該組成物に好適に用いられるアクリル樹脂を提供する。【解決手段】〔1〕下式(I)で示される重合単位を有するアクリル樹脂。(式中、R1は、炭素数1〜4の分岐していてもよいアルキレン基を表し、R2は、炭素数1〜4の分岐していてもよいアルキル基を表し、R3は水素原子又はメチル基を表す。)〔2〕前記式(I)で示される重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有するレジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下式(I)で示される重合単位を有するアクリル樹脂。

IPC (3)：

C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

FI (3)：

C08F20/28 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601

F-Term (24)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  4J100AK31R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR00R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC52Q ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-050264   Applicant：富士通株式会社

Cited by examiner (2)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-044665   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-138809   Applicant：富士写真フイルム株式会社