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J-GLOBAL ID:200903022097821398

光画像計測装置及び光画像計測方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三澤 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004299036
Publication number (International publication number):2006112864
Application date: Oct. 13, 2004
Publication date: Apr. 27, 2006
Summary:
【課題】 計測中に被測定物体が動いた場合にも、被測定物体の様々な深さの断層画像に基づく3次元画像等を高い精度で形成可能な光画像計測装置を提供する。【解決手段】 低コヒーレント光源からの光ビームを信号光Sと参照光Rとに分割するハーフミラー6と、参照光Rの周波数をシフトさせる周波数シフタ8と、参照光Rの光路長を変更する参照鏡9及びピエゾ素子9Aと、信号光Sと参照光Rとがハーフミラー6により重畳されて生成される干渉光Lを受光して検出信号を出力するCCD21、22と、この検出信号に基づいて断層画像を形成する画像形成部51と、各断層画像の計測深度を求める計測深度算出手段53と、形成された複数の断層画像をその計測深度に基づいて計測深度方向に配列させる画像処理部57とを備える。画像処理部57は、配列された断層画像に基づいて3次元画像等を形成する。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
低コヒーレント光源から出力された光ビームを被測定物体に向かう信号光と参照物体に向かう参照光とに分割する分割手段と、前記信号光の周波数と前記参照光の周波数とを相対的にシフトさせる周波数シフト手段と、前記参照光の光路長を変更する変更手段と、前記被測定物体を経由した前記信号光と前記参照物体を経由した前記参照光とを重畳させて前記周波数のシフト量に応じたビート周波数の干渉光を生成する重畳手段と、前記生成された干渉光を受光して検出信号を出力する検出手段と、前記出力された検出信号に基づいて前記信号光の進行方向に直交する前記被測定物体の断層画像を形成する画像形成手段とを有する光画像計測装置であって、 前記形成される前記被測定物体の前記断層画像について、前記信号光の進行方向における計測深度を求める取得手段を備えることを特徴とする光画像計測装置。
IPC (4):
G01N 21/17 ,  A61B 10/00 ,  A61B 3/10 ,  G01B 11/24
FI (4):
G01N21/17 630 ,  A61B10/00 E ,  A61B3/10 Z ,  G01B11/24 D
F-Term (63):
2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065BB22 ,  2F065BB26 ,  2F065CC16 ,  2F065DD11 ,  2F065FF52 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065HH08 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL09 ,  2F065LL12 ,  2F065LL13 ,  2F065LL22 ,  2F065LL33 ,  2F065LL35 ,  2F065LL37 ,  2F065LL42 ,  2F065LL53 ,  2F065LL62 ,  2F065LL67 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065NN05 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS02 ,  2G059AA06 ,  2G059AA10 ,  2G059BB12 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG03 ,  2G059GG04 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK03 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10 ,  2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
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