Pat

J-GLOBAL ID：200903022210583970

モノリシック指紋センサ

Inventor： サルマン アブゥ アッサン ,  マリー-ジョゼフ ルヴィレ
Applicant, Patent owner： フランス・テレコム
Agent (1)： 岡部 惠行 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996295757
Publication number (International publication number)：1997126918
Application date： Oct. 17, 1996
Publication date： May. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 モノシリック指紋センサ【解決手段】 本発明による電子的な指紋センサは、圧力検出によって作動するもので、指の尾根線が谷部よりも大きな圧力を及ぼすことを利用している。このセンサは、圧力マイクロセンサのマトリクスと電子制御及び信号処理回路とを備えており、圧力検出部分と信号処理及び制御部分との両者について、電子回路製造技術(薄層の付着、フォトエッチング、ドーピング及び熱処理)によって、完全に一体型に作成される。マトリクスタイプの圧力センサには、空洞の上方に延伸した絶縁層上に位置する圧電抵抗又は可変コンデンサあるいはマイクロコンタクタのいずれかが使用される。

Claim (excerpt)：

指紋のパターンに敏感な圧力マイクロセンサのマトリクスを具備し、集積回路製造技術によって基板上に作成される指紋センサにおいて、主として、マトリクスの各マイクロセンサは、マイクロセンサの導電要素を支持し且つ所定圧力の作用下で該要素の変形を可能にするために、絶縁材料から成る隔膜によって閉じられた空洞を備えることを特徴とする指紋センサ。

IPC (5)：

G01L 5/00 101 ,  G06T 1/00 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822 ,  H01L 29/84

FI (4)：

G01L 5/00 101 Z ,  H01L 29/84 A ,  G06F 15/64 G ,  H01L 27/04 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 指紋認識のためのセンサ装置およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-287247   Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
• 特開平4-065645
  
• 容量型薄膜絶対圧センサ、抵抗型薄膜絶対圧センサおよび容量型絶対圧センサを製造するための薄膜法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-194288   Applicant：エンドレスウントハウザーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツングウントコンパニー
• マイクロマシンの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-258291   Applicant：沖電気工業株式会社
• 特開平4-065645
  
• 特開平4-065645