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J-GLOBAL ID:200903022409640256

着色ミクロパターンの形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994229072
Publication number (International publication number):1996075915
Application date: Aug. 31, 1994
Publication date: Mar. 22, 1996
Summary:
【要約】【目的】 十分な色濃度(OD)と高い寸法精度を有し膜強度の優れた着色ミクロパターンを簡便に形成する方法を提供する。【構成】 着色ミクロパターンの形成方法は、(1)顔料100重量部当たりアルカリ可溶性樹脂1〜20重量部を含有する熱硬化性組成物層を、透明基板に形成し、(2)該熱硬化性組成物層上にネガ型感放射線性組成物層を形成し、次いで(3)該ネガ型感放射線性組成物層に放射線を照射したのち、アルカリ現像することにより、放射線未照射部のネガ型感放射線性組成物層および放射線未照射部下部の熱硬化性組成物層を除去し、その後(4)残留する熱硬化性組成物層を熱硬化させることを特徴とする。
Claim (excerpt):
(1)顔料100重量部当たりアルカリ可溶性樹脂1〜20重量部を含有する熱硬化性樹脂組成物を、透明基板に塗布し、乾燥して、熱硬化性組成物層を形成したのち、(2)該熱硬化性組成物層上にアルカリ現像型のネガ型感放射線性樹脂組成物を塗布し、乾燥して、ネガ型感放射線性組成物層を形成し、次いで(3) ホトマスクを介して該ネガ型感放射線性組成物層に放射線を照射したのち、アルカリ現像することにより、放射線未照射部のネガ型感放射線性組成物層および放射線未照射部下部の熱硬化性組成物層を除去し、その後(4)残留する熱硬化性組成物層を熱硬化させることを特徴とする着色ミクロパターンの形成方法。
IPC (4):
G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/26 ,  G03F 7/40
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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