液相堆積装置及び不純物除去方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：丸島儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997008657
Publication number (International publication number)：1998204685
Application date： Jan. 21, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】液相堆積のための電解液中の不純物を液相堆積条件に大きな影響を与えず、効率的に除去する。【解決手段】電解液を保持する液相堆積槽の下部に不純物沈殿槽を有することを特徴とする液相堆積装置とする。また、液相堆積槽中の電解液の循環装置が濾過器を有することを特徴とする液相堆積装置とする。また、電解液を保持する液相堆積槽中に渦流発生手段を有することを特徴とする液相堆積装置とする。

Claim (excerpt)：

電解液を保持する液相堆積槽の下部に不純物沈殿槽を有することを特徴とする液相堆積装置。

IPC (2)：

C25D 9/08 , H01L 31/04

FI (2)：

C25D 9/08 , H01L 31/04 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

プロセス有機物で電解液から金属を電解的に析出する方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平7-522071 Applicant：アトーテヒドイッチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
電気めっき用アノードスライム除去装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-081540 Applicant：株式会社リコー
電解めっき方法、電解めっき装置、電解めっき用ラック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-220667 Applicant：イビデン株式会社

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Cited by examiner (5)

プロセス有機物で電解液から金属を電解的に析出する方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平7-522071 Applicant：アトーテヒドイッチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
電気めっき用アノードスライム除去装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-081540 Applicant：株式会社リコー
電解めっき方法、電解めっき装置、電解めっき用ラック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-220667 Applicant：イビデン株式会社

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