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J-GLOBAL ID:200903022837011328
液相堆積装置及び不純物除去方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
丸島 儀一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997008657
Publication number (International publication number):1998204685
Application date: Jan. 21, 1997
Publication date: Aug. 04, 1998
Summary:
【要約】【課題】 液相堆積のための電解液中の不純物を液相堆積条件に大きな影響を与えず、効率的に除去する。【解決手段】 電解液を保持する液相堆積槽の下部に不純物沈殿槽を有することを特徴とする液相堆積装置とする。また、液相堆積槽中の電解液の循環装置が濾過器を有することを特徴とする液相堆積装置とする。また、電解液を保持する液相堆積槽中に渦流発生手段を有することを特徴とする液相堆積装置とする。
Claim (excerpt):
電解液を保持する液相堆積槽の下部に不純物沈殿槽を有することを特徴とする液相堆積装置。
IPC (2):
FI (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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プロセス有機物で電解液から金属を電解的に析出する方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平7-522071
Applicant:アトーテヒドイッチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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電気めっき用アノードスライム除去装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-081540
Applicant:株式会社リコー
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電解めっき方法、電解めっき装置、電解めっき用ラック
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-220667
Applicant:イビデン株式会社
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めっき用金属粉末の連続溶解装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-233194
Applicant:川崎製鉄株式会社
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酸化亜鉛膜作製用電解液
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-023775
Applicant:大阪市, 奥野製薬工業株式会社
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